用途：

　　適用于工礦企業(yè)、科研單位,、大專院校實驗室等,。在各種氣氛下作化學分析、物理測定,、已廣泛應用于粉末冶金,、陶瓷金屬化、熒光粉,、電池材料,、電子陶瓷、化工原料,、納米材料等產品的研究及小批量生產,。

1、1300℃,、1400℃是硅碳棒加熱,，設置在兩側或者三側（根據(jù)爐膛大小）,，1600℃,、1700℃是硅鉬棒設置在爐膛內的兩側，特殊的絕熱設計,，爐膛可以更換,。

2、控制方式：可控硅控制,， PID參數(shù)自整定功能,，手動/自動無干擾切換功能，超溫報警功能，具有溫度補償和溫度校正功能,， 30段可編程控制（1600℃,、1700℃50段可編程控制）。

3,、顯示精度：±1℃,,，沖溫直小于±3℃，升溫速度,10-30℃/分鐘自由設定

4,、控溫儀表具有密碼功能,，設定參數(shù)密碼控制。多安全防護設計,，安全性能好,，使用壽命長。

5,、普通真空爐真空度為-0.098MPa,，可選擇高真空配置，高真空爐體結構,，高真空機組,，真空度6.67*10-1Pa.

6、氣路系統(tǒng)配有流量計,、減壓閥、截止閥,，設備采用爐殼整體密封,，爐口用硅橡膠密封并加水冷。 

7,、外形設計,，滿門結構，美觀大方,。