| 供貨周期 |
一個月 |
規(guī)格 |
20/pk |
| 貨號 |
76042 |
主要用途 |
是X射線顯微鏡和x射線光譜學技術的理想襯底 |
X-ray應用薄膜窗口（電鏡其他用品）是X射線顯微鏡和x射線光譜學技術的理想襯底，經(jīng)過等離子清洗,，無有機污染,。平坦、均勻沉積的薄膜具有低場到場可變性和高x射線透射性,。
X-ray應用薄膜窗口（電鏡其他用品）
有兩種薄膜,，低應力lpcvd氮化硅膜具很強機械強度，適合高溫和差壓環(huán)境,；G-FLAT™氧化硅膜平坦無褶皺,，非常適合x射線顯微鏡和需要無氮氣背景的分析。這些薄膜窗口是X射線顯微鏡和x射線光譜學技術的理想襯底,，經(jīng)過等離子清洗,，無有機污染。平坦,、均勻沉積的薄膜具有低場到場可變性和高x射線透射性,。
G-FLAT™氧化硅膜窗口，適合生物成像研究,，具有玻璃狀親水表面,。外框硅材質(zhì)，外框大小5*5mm,，框厚310µm,，膜厚度300nm。無褶皺,，與超高真空(UHV)應用兼容,。
LPCVD氮化硅膜窗口，外框大小5*5mm,，框厚320µm,，200 MP 低應力無孔氮化硅,。
X-ray應用薄膜窗口（電鏡其他用品）信息：
貨號 | 產(chǎn)品描述 | 窗口(Sq.) | 膜厚 | 規(guī)格 |
76042-10 | G-FLAT™氧化硅膜窗口 | 500µm | 100nm | 20/盒 |
76042-11 | G-FLAT™氧化硅膜窗口 | 500µm | 300nm | 20/盒 |
76042-12 | LPCVD氮化硅膜窗口 | 500µm | 50nm | 20/盒 |
76042-13 | LPCVD氮化硅膜窗口 | 1000µm | 50nm | 20/盒 |
76042-14 | LPCVD氮化硅膜窗口 | 500µm | 100nm | 20/盒 |
76042-15 | LPCVD氮化硅膜窗口 | 1000µm | 100nm | 20/盒 |
76042-16 | LPCVD氮化硅膜窗口 | 1500µm | 200nm | 20/盒 |
76042-17 | LPCVD氮化硅膜窗口 | 2500µm | 200nm | 20/盒 |
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