純硅窗口（顯微鏡用品）Pure Silicon Windows

純硅膜的厚度有5nm, 9nm, 15nm, 35nm,，利用濺射沉積純硅,，允許對(duì)含氮和/或碳的樣品進(jìn)行元素分析。單晶純硅具有<1-0-0>取向,，制作35 nm的薄膜,，用于衍射研究和其它需要從單晶薄膜中獲得均勻的背景應(yīng)用。

無(wú)孔硅薄膜輕微起皺,，大約100微米間距有5微米或更少的偏轉(zhuǎn),，這對(duì)于高分辨率成像來(lái)說(shuō)通常是沒(méi)有問(wèn)題的。納米多孔硅Nanoporous采用P30膜使多孔窗口更加多孔,，孔徑一般在10-60納米范圍,。

• 納米級(jí)別的厚度-成像窗口的厚度為5到35 nm，降低背景的干擾,，以更高的對(duì)比度成像,。5nm厚的無(wú)孔純硅窗口比市面上最薄的非晶碳膜更薄。
• 可等離子清洗-可以強(qiáng)力等離子清洗,，去除有機(jī)污染,，不像傳統(tǒng)的碳膜
• 場(chǎng)到場(chǎng)的均勻性-非多孔純硅窗口比碳膜更薄,，減少了場(chǎng)到場(chǎng)的可變性.(注：多孔窗口確實(shí)具有固有的結(jié)晶特征，但具有無(wú)背景納米尺度的孔隙),。
• 降低色彩模糊-與市面上最薄的無(wú)定形碳膜相比,，5nm無(wú)孔純硅窗口的色彩模糊減少一半。這種巨大的差異是由于電子通過(guò)硅窗口的薄膜的非彈性散射減少了兩倍,。反過(guò)來(lái),，減少的色彩模糊提供了一個(gè)潛在的成像分辨率的兩倍提高。
• 納米尺寸孔-純硅窗口可作為孔徑為5~50 nm的多孔薄膜,?？紫对试S簡(jiǎn)單和穩(wěn)定的懸浮納米材料進(jìn)行成像,，而不干涉背景,。
• 硅成分優(yōu)點(diǎn)- 純硅窗口的元素硅組分在高束流和高退火溫度下顯著提高了穩(wěn)定性。純硅成分還引入了最小的背景信號(hào),，使含有氮和/或碳的樣品的元素分析可以通過(guò)EDX和EELS進(jìn)行,。
• 孤立的多晶體硅-多孔純硅窗口的多晶特性為x射線衍射研究提供了內(nèi)部校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)。孤立的晶體特征也為高分辨率尺寸測(cè)量提供了一個(gè)方便可靠的尺度,，硅的晶格特征也很好,。
• 親水性-無(wú)孔和多孔純硅窗口的親水性可通過(guò)等離子體和/或臭氧處理來(lái)調(diào)節(jié)，從而使樣品的制備變得更加容易,，特別是在水溶液中的樣品,。
• 高穩(wěn)定性能-在高束流和高退火溫度下(無(wú)孔600°C，納米孔>1000°C)

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