*MYCRO紫外曝光機(jī),，包含EM-5026M1,， EM-5086， EM-5026B,，EM-5026AM四個型號,，是的光刻系統(tǒng)，該系列紫外曝光機(jī)廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子,、生物器件和納米科技領(lǐng)域,；并且該系列的紫外曝光機(jī)已經(jīng)被眾多*企業(yè)、研發(fā)中心,、研究所和高校采用,，作為他們光刻系統(tǒng)的*；其優(yōu)秀的技術(shù),、*的工藝和良好的服務(wù),，贏得了廣大用戶的青睞。
紫外曝光機(jī)作為光刻系統(tǒng),，zui重要的技術(shù)在于以下兩個方面：掩模-晶圓片對準(zhǔn),，以及將掩模版上的圖案復(fù)制到晶圓片上，為下一步進(jìn)行可是或者離子注入工序做好準(zhǔn)備,。
MYCRO紫外曝光機(jī)/光刻系統(tǒng)的曝光方式,，是采用可調(diào)節(jié)壓力的接觸式曝光，有效降低了光刻膠對掩模版的污染以及掩模版的磨損,，從而提高掩模版的壽命,。因此，MYCRO紫外曝光機(jī)/光刻系統(tǒng)以其*的性價比而讓人印象深刻,。
曝光機(jī)/光刻系統(tǒng)的組件主要包含：
紫外光源構(gòu)造
帶托盤的晶片工作臺
配CCD鏡頭的顯微鏡
監(jiān)視器
掩膜夾具
紫外光源透鏡
紫外光源鏡片
紫外燈電源系統(tǒng)
操作控制器
350W紫外燈
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