*MYCRO光刻機，包含EM-5026M1， EM-5086,， EM-5026B，EM-5026AM四個型號,，是的光刻系統(tǒng),，廣泛應用于半導體、微電子,、生物器件和納米科技領域,。并且該系列的光刻機已經(jīng)被眾多*企業(yè)、研發(fā)中心,、研究所和高校采用,，作為他們光刻系統(tǒng)的*；其優(yōu)秀的技術,、*的工藝和良好的服務,，贏得了廣大用戶的青睞。
紫外曝光機作為光刻系統(tǒng),，zui重要的技術在于以下兩個方面：掩模-晶圓片對準,，以及將掩模版上的圖案復制到晶圓片上,，為下一步進行可是或者離子注入工序做好準備。
MYCRO紫外曝光機/光刻系統(tǒng)的曝光方式,，是采用可調(diào)節(jié)壓力的接觸式曝光，有效降低了光刻膠對掩模版的污染以及掩模版的磨損,，從而提高掩模版的壽命,。因此，MYCRO紫外曝光機/光刻系統(tǒng)以其*的性價比而讓人印象深刻,。
曝光機/光刻系統(tǒng)的組件主要包含：
紫外光源構(gòu)造
帶托盤的晶片工作臺
配CCD鏡頭的顯微鏡
監(jiān)視器
掩膜夾具
紫外光源透鏡
紫外光源鏡片
紫外燈電源系統(tǒng)
操作控制器
350W紫外燈
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