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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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| 參考價 | 面議 |
更新時間：2025-04-24 16:43:41瀏覽次數(shù)：110
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| 測量精度 | ±0.1°° | 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 |
|---|---|---|---|
| 固定樣品臺大小 | 直徑200mmmm | 價格區(qū)間 | 面議 |
| 儀器類型 | 實驗室臺式 | 儀器種類 | 動態(tài)接觸角測定儀 |
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 能源,電氣 |
德國進(jìn)口OEG接觸角測量儀 HL 200專用于半導(dǎo)體表面特性分析,，搭載±0.1°超精測量模塊與智能滴液系統(tǒng)（最小液滴0.2μl）,，1秒完成晶圓潤濕性檢測,。360°全向掃描結(jié)合200mm真空載臺，無損定位超薄晶圓,，精準(zhǔn)調(diào)控表面自由能,，提升光刻膠結(jié)合力，降低缺陷率超30%,。適配光刻膠開發(fā),、拋光液驗證等場景，確保5nm及更優(yōu)良節(jié)點良率,。
高精度晶圓表面能分析系統(tǒng)：HL 200 技術(shù)全覽
核心功能定位
專為半導(dǎo)體工藝研發(fā)的接觸角測量系統(tǒng),，通過±0.1°級接觸角精度與0.2μl微量液滴控制技術(shù)，實現(xiàn)晶圓表面自由能（SFE）的動態(tài)解析,，直接優(yōu)化光刻膠附著力,、旋涂均勻性及缺陷控制（<1μm線寬良率提升超30%）。
德國進(jìn)口OEG接觸角測量儀硬件架構(gòu)亮點
精密機械系統(tǒng)：封閉式防塵結(jié)構(gòu)（400×300×300mm）,，集成特氟龍涂層晶圓臺（兼容200mm直徑）,，支持真空吸附與360°旋轉(zhuǎn)定位（x軸行程100mm）
光學(xué)成像模塊：500萬像素USB攝像頭+固定焦距物鏡，搭配7級可調(diào)LED環(huán)形光源,，0.01°級角度分辨率
滴液控制系統(tǒng)：5種配置可選（含雙自動滴液模式）,，手動三軸微調(diào)（x/y/z軸精度±0.1mm），最小液滴體積0.2μl（精度0.1μl）
測量效能突破
1秒快速檢測：實時高清視頻捕捉液滴形態(tài),，自動計算接觸角并生成能值曲線
數(shù)據(jù)可溯性：Windows系統(tǒng)軟件同步顯示三維潤濕分析圖與歷史數(shù)據(jù)對比,，支持異常波動預(yù)警
技術(shù)參數(shù)集
精度指標(biāo)：分辨率0.01° / 重復(fù)性±0.1° / 絕對精度±0.1°
兼容規(guī)格：玻璃注射器&一次性魯爾鎖針頭 / ISO 5級潔凈環(huán)境適配
工藝驗證：成功應(yīng)用于12英寸晶圓產(chǎn)線，顯影缺陷率降低37%（45nm節(jié)點案例）
超微量分析：0.2μl液滴匹配微米級結(jié)構(gòu)表征需求,，避免傳統(tǒng)μl級液滴對納米圖案的過度浸潤干擾,；
納米級靈敏度：0.01°分辨率可檢測單分子層吸附變化,，助力原子層沉積（ALD）工藝的界面調(diào)控,；
工業(yè)級可靠性：封閉式防塵結(jié)構(gòu)符合ISO 5級潔凈度要求，支持24/7連續(xù)運行,，年故障率＜0.1%,。
