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    狹縫涂布是什么意思?工作原理是怎么樣的呢,?

    2025-7-4 閱讀(127)

     

     

    狹縫涂布:理論,、設(shè)計(jì)與應(yīng)用

     

    狹縫涂布是一種極其通用的沉積技術(shù),其中溶液通過(guò)一個(gè)靠近基材表面的狹縫輸送到基材上。

     

    狹縫涂布方法的一個(gè)主要優(yōu)點(diǎn)是濕膜涂層厚度,、溶液流速以及涂層基材相對(duì)于涂布頭的速度之間存在簡(jiǎn)單的關(guān)系,。此外,狹縫涂布能夠在大面積上實(shí)現(xiàn)極其均勻的薄膜,。例如,,Ossila 狹縫涂布機(jī)可以在許多米范圍內(nèi)產(chǎn)生厚度變化低于 5% 的涂層,并且在 100 毫米范圍內(nèi)厚度變化小于 50 微米(0.05%),。

     

    狹縫涂布是許多可用于將薄液膜沉積到基材表面的方法之一,。與旋涂或浸涂等傳統(tǒng)技術(shù)相比,狹縫涂布的一個(gè)主要優(yōu)勢(shì)是它可以輕松集成到放大工藝中,,包括卷對(duì)卷(roll-to-roll)涂布和片對(duì)片(sheet-to-sheet)沉積系統(tǒng),。

     

    該技術(shù)本身在涂層表面的長(zhǎng)度/寬度上提供了高水平的涂層均勻性,特別是在手套箱內(nèi)操作時(shí),,并且可以沉積厚度范圍從幾納米到數(shù)微米的薄膜,。它可以針對(duì)廣泛的溶液類型和粘度,在每秒幾厘米到幾米的速度范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)這一點(diǎn),。

     

    狹縫涂布概述

     

    狹縫涂布屬于一類被稱為預(yù)計(jì)量(pre-metered)涂布技術(shù)的技術(shù),。對(duì)于預(yù)計(jì)量沉積,最終膜厚取決于溶液通過(guò)系統(tǒng)的速率,。這使得濕膜厚度的理論確定比其他方法容易得多,。

     

    由于狹縫涂布相對(duì)于其他卷對(duì)卷兼容技術(shù)提供了優(yōu)異的加工窗口,該方法對(duì)于正從實(shí)驗(yàn)室規(guī)模的薄膜制造轉(zhuǎn)向中試規(guī)模生產(chǎn)的研究人員具有極大的意義,。聚合物和鈣鈦礦光伏,、有機(jī)發(fā)光二極管、量子點(diǎn)和光子結(jié)構(gòu)(以及其他許多領(lǐng)域)的研究人員現(xiàn)在正專注于將狹縫涂布作為沉積技術(shù)應(yīng)用于他們的研究,,以確定將其材料和器件結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到放大工藝的可行性,。

     

    盡管狹縫涂布有許多優(yōu)點(diǎn),但它比其他沉積技術(shù)更復(fù)雜,,并且沉積質(zhì)量對(duì)加工參數(shù)高度敏感,。然而,有許多設(shè)計(jì)考慮可以幫助確保高涂層均勻性,。

     

    狹縫涂布機(jī)的結(jié)構(gòu)

     

    狹縫涂布機(jī)的設(shè)計(jì)和制造基于向給定表面提供均勻的溶液輸送,。當(dāng)從均勻涂覆小面積(幾平方毫米)過(guò)渡到涂覆大面積(數(shù)平方米)時(shí),這個(gè)單一的簡(jiǎn)化要求可能難以管理,。為了實(shí)現(xiàn)這一點(diǎn),,狹縫涂布機(jī)被分解為幾個(gè)專門設(shè)計(jì)的子系統(tǒng)。

     

    總共有四個(gè)不同的子系統(tǒng):

     

    計(jì)量系統(tǒng)控制流入系統(tǒng)的溶液流速

    分配系統(tǒng)確保溶液在涂層寬度上均勻分布

    頭定位系統(tǒng)保持涂布頭相對(duì)于基材的位置

    基材移動(dòng)系統(tǒng)決定基材如何通過(guò)狹縫涂布頭

    img1 

    上圖顯示了一個(gè)簡(jiǎn)化的卷對(duì)卷狹縫系統(tǒng),。均勻的溶液流必須從計(jì)量系統(tǒng)輸送到狹縫頭,。這對(duì)于提供指定的涂層厚度以及沿涂層長(zhǎng)度恒定均勻的薄膜非常重要,。

     

    溶液分布由狹縫頭控制。內(nèi)部空腔的尺寸決定了溶液在涂層寬度上的分布,。狹縫頭開(kāi)口的尺寸和尺寸對(duì)于在狹縫頭和基材表面之間形成穩(wěn)定的涂層珠(coating bead)也很重要,。

     

    狹縫頭位于移動(dòng)基材的上方,涂布頭相對(duì)于基材的高度對(duì)涂層質(zhì)量有很大影響,。大多數(shù)系統(tǒng)通過(guò)千分尺或電動(dòng)平臺(tái)控制,;一些高級(jí)系統(tǒng)允許涂布頭相對(duì)于基材傾斜,使得涂布頭前后之間存在可變的間隙,。

     

    系統(tǒng)的最后一部分是基材如何相對(duì)于涂布頭移動(dòng),。在卷對(duì)卷系統(tǒng)中,這由以給定速度送入柔性片的輥筒控制,。在片對(duì)片系統(tǒng)中,,可以使用線性平臺(tái)來(lái)移動(dòng)基材;此方法通常用于剛性基材,。

     

    所有這些子系統(tǒng)的相互作用導(dǎo)致形成穩(wěn)定的涂層,,其中沉積的濕膜厚度最終由以下因素決定:

     

    基材通過(guò)狹縫頭的速度

    溶液從狹縫頭分配的速率

    溶液計(jì)量

    溶液計(jì)量是狹縫系統(tǒng)中必需的,因?yàn)槿芤旱妮斔蛯?duì)涂層的均勻性和薄膜的實(shí)際厚度有顯著影響,。溶液分配的速率必須保持恒定,,因?yàn)閺挠?jì)量系統(tǒng)分配的溶液的速率與沉積膜的厚度成正比。流速的任何變化都會(huì)導(dǎo)致膜厚的變化,。因此,,對(duì)計(jì)量系統(tǒng)提出了高公差要求,。

     

    另一個(gè)重要方面是計(jì)量系統(tǒng)的輸送方式,。一些輸送方法以小脈沖而不是恒定速率提供溶液,這些脈沖的頻率會(huì)導(dǎo)致薄膜中出現(xiàn)震顫缺陷,。

     

    此外,,在不同壓力下使用時(shí),輸送系統(tǒng)的響應(yīng)會(huì)對(duì)溶液輸送的速率產(chǎn)生影響,。由液壓或氣動(dòng)控制的泵可能會(huì)因溶液粘度變化而出現(xiàn)問(wèn)題,。

     

    提供溶液計(jì)量的方法有很多。使用的泵類型通常取決于幾個(gè)因素,,包括:

     

    要涂覆的最大溶液體積

    溶液的流速

    流速的準(zhǔn)確性

    被泵送溶液的性質(zhì)

    系統(tǒng)的成本限制

     

    用于狹縫系統(tǒng)中溶液計(jì)量的泵類型通??煞譃閮煞N類型的容積泵:

    蠕動(dòng)泵(Peristaltic pumps),其中溶液容器的體積減小導(dǎo)致溶液被置換

    旋轉(zhuǎn)泵(Rotary pumps),,其中旋轉(zhuǎn)元件將溶液從泵殼的一側(cè)轉(zhuǎn)移到另一側(cè)

    img2 

     

    對(duì)于實(shí)驗(yàn)室測(cè)試中常見(jiàn)的小體積和低流速,,簡(jiǎn)單的蠕動(dòng)泵(如注射泵)是合適的。在這些計(jì)量系統(tǒng)中,,活塞或柱塞用于置換溶液,。溶液進(jìn)入狹縫系統(tǒng)的速率取決于活塞移動(dòng)的速率和活塞的直徑,。

     

    使用注射泵時(shí),位移由電子步進(jìn)電機(jī)控制,,有助于保持排出的體積與壓力無(wú)關(guān)——前提是置換溶液所需的力小于電機(jī)可以提供的力,。使用這些分配系統(tǒng)時(shí),步進(jìn)速率對(duì)于避免因電機(jī)步進(jìn)脈沖導(dǎo)致缺陷形成很重要,。

     

    對(duì)于更大的涂布體積和速率,,這些較小的系統(tǒng)通常不太適合。相反,,使用連接到大型溶液儲(chǔ)罐的旋轉(zhuǎn)泵,。在這些系統(tǒng)中,位移由一個(gè)旋轉(zhuǎn)元件提供,,該元件以可以限制溶液流動(dòng)的方式放置,。

     

    泵入系統(tǒng)的體積與以下因素直接相關(guān):

     

    元件旋轉(zhuǎn)的速度

    每次旋轉(zhuǎn)通過(guò)的溶液體積

    與蠕動(dòng)泵相比,旋轉(zhuǎn)泵方法減少了流速脈沖的影響,。然而,,由于位移機(jī)構(gòu)與溶液接觸,保護(hù)機(jī)構(gòu)免受損壞并保護(hù)溶液免受污染可能成為問(wèn)題,。

     

    狹縫頭設(shè)計(jì)

    狹縫涂布系統(tǒng)最復(fù)雜的方面之一是狹縫頭的設(shè)計(jì),。涂布頭控制溶液在涂層寬度上的分布、薄膜的實(shí)際涂層寬度,,并有助于確定涂布過(guò)程的穩(wěn)定性,。

    img3 

    上圖顯示了狹縫頭設(shè)計(jì)的內(nèi)部。涂布頭由幾個(gè)關(guān)鍵部件組成——包括入口,、分流板,、平臺(tái)(land)、狹縫(slot),、墊片(shim)和唇口(lip),。一些涂布頭可以有多個(gè)分流板和平臺(tái)(稱為預(yù)平臺(tái) pre-lands)以改善溶液的分布。然而,,增加這些部件的尺寸和數(shù)量也會(huì)增加系統(tǒng)中的死體積(dead volume),。

     

    入口與分流板(Inlet and Manifold)

    對(duì)于入口,位置通常在系統(tǒng)的中間,,靠近分流板的頂部,。對(duì)于寬度較大的狹縫頭,可以使用多個(gè)入口來(lái)減小所需的分流板尺寸,,以及平臺(tái),、預(yù)平臺(tái)和狹縫的長(zhǎng)度。一旦溶液進(jìn)入系統(tǒng),,就開(kāi)始填充分流板,。

     

    該部分有多種設(shè)計(jì),,正是這部分對(duì)分布影響最大。

    img4 

    上圖顯示了分配分流板的最常見(jiàn)設(shè)計(jì)和可用的不同橫截面,。簡(jiǎn)單的設(shè)計(jì)是T形分流板,,其中分流板的底邊和頂邊與狹縫的出口狹縫平行。這為溶液流向出口狹縫創(chuàng)造了恒定的長(zhǎng)度(L1=L2),,并導(dǎo)致遠(yuǎn)離入口的壓力下降,。

     

    這導(dǎo)致靠近分流板末端的溶液流速較低,溶液在涂布頭寬度上分布不均勻,,以及溶液的傳輸時(shí)間不同,。

     

    為了在狹縫頭寬度上實(shí)現(xiàn)相等的流速,分流板可以設(shè)計(jì)成衣架形(coat-hanger design),。這是指隨著與入口距離的增加,,分流板的底邊越來(lái)越接近狹縫頭的出口(L1>L2)。雖然使用衣架設(shè)計(jì)時(shí)溶液的流速在寬度上變得更加均勻,,但衣架的形狀必須針對(duì)不同的流速和溶液粘度進(jìn)行重新優(yōu)化,。

     

    可以使用一種稱為“恒定剪切分流板(constant shear manifold)"的衣架形設(shè)計(jì)的改進(jìn)形式,其中分流板底邊與狹縫出口之間距離的減小不是線性的,。相反,,初始距離減小很小,而更靠近狹縫邊緣時(shí)距離顯著減?。↙1>L2>>L3),。

     

    這種設(shè)計(jì)允許在狹縫頭寬度上保持恒定的流速(與溶液粘度和流速無(wú)關(guān))。然而,,恒定剪切分流板需要比其他設(shè)計(jì)更長(zhǎng)的平臺(tái)長(zhǎng)度——同時(shí),,分流板的體積顯著更大。這增加了所需狹縫頭的尺寸和系統(tǒng)中的死體積,,從而導(dǎo)致初始設(shè)置成本和運(yùn)營(yíng)成本高于更簡(jiǎn)單的設(shè)計(jì),。

     

    平臺(tái),、狹縫和墊片(Lands, Slots, and Shims)

    涂布頭內(nèi)的預(yù)平臺(tái)(pre-lands),、平臺(tái)(lands)和狹縫(slots)都是溶液流動(dòng)因狹窄通道而受到限制的區(qū)域。該通道的寬度和長(zhǎng)度對(duì)于控制狹縫頭內(nèi)的壓力降至關(guān)重要,,這有助于控制濕膜涂層的穩(wěn)定性,。

     

    溶液通過(guò)這些狹窄通道的流動(dòng)由泊肅葉流方程(Pouiselle Flow equation)決定(由下面的方程給出),其中狹縫頭內(nèi)的壓力降(delp)由溶液的流速(V),、溶液的粘度(mu),、通道長(zhǎng)度(L)和通道寬度(b)決定。

    由此可以看出,,對(duì)壓降控制程度最高的參數(shù)是通道寬度,。然而,,更改通道長(zhǎng)度和寬度的成本非常高,因?yàn)槊看胃亩夹枰匦裸娤餍碌耐坎碱^,??梢酝ㄟ^(guò)使用不同厚度的墊片來(lái)改變通道寬度來(lái)規(guī)避這個(gè)問(wèn)題。

     

    通過(guò)針對(duì)不同的流速或溶液粘度使用不同尺寸的墊片,,可以將壓降保持在固定值,。

     

    img5 

    除了控制預(yù)平臺(tái)、平臺(tái)和狹縫厚度外,,墊片還可用于設(shè)置涂層的寬度,。它們可以允許沉積條紋圖案,并且可以用作彎月面導(dǎo)向器(meniscus guide)以改善邊緣清晰度,。通過(guò)讓最終的狹縫厚度由墊片決定,,可以阻止溶液從狹縫涂布頭的某些區(qū)域流出。

     

    下圖顯示了墊片設(shè)計(jì)如何使用單個(gè)涂布頭在基材上沉積 4 條材料條紋,。當(dāng)沉積涂層寬度小于狹縫涂布頭寬度的條紋時(shí),,涂層彎月面會(huì)由于毛細(xì)作用力沿寬度方向擴(kuò)散。這降低了涂層圖案的精度,,并可能導(dǎo)致多條條紋相互滲色,。

    為了提高邊緣質(zhì)量,可以添加彎月面導(dǎo)向器,。這些導(dǎo)向器是帶有薄突起的墊片,,該突起位于狹縫頭唇口下方。這些突起放置在有需要的條紋圖案的位置,,并將彎月面固定在墊片而不是唇口上,。這可以防止彎月面沿著涂布頭的寬度擴(kuò)散。

    img6 

    唇口(Lips)

    狹縫頭設(shè)計(jì)的最后一個(gè)方面是唇口,。這是涂布頭出口狹縫的上游和下游區(qū)域,。在這些區(qū)域,彎月面固定在狹縫頭上,,這些彎月面的穩(wěn)定性會(huì)受到唇口設(shè)計(jì)和定位的強(qiáng)烈影響,。唇口設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單的改變是增加唇口的長(zhǎng)度。

     

    下圖顯示了唇口可用的三種不同幾何形狀,。它們是:

     

    標(biāo)準(zhǔn)配置(Standard):上游或下游唇口的間隙高度相等

    下咬合(Underbite):上游唇口間隙小于下游間隙

    上咬合(Overbite):上游唇口間隙大于下游間隙

    改變配置的優(yōu)勢(shì)在于,,可以在不改變下游彎月面穩(wěn)定性的情況下提高上游彎月面的穩(wěn)定性。

     

    img7 

     

    基材定位(Substrate Positioning)

    狹縫頭相對(duì)于基材的定位對(duì)于幫助穩(wěn)定涂層珠(coating bead)非常重要,。在片對(duì)片和卷對(duì)卷系統(tǒng)中,,固定基材的載臺(tái)(或輥筒)的加工和公差會(huì)對(duì)間隙高度產(chǎn)生很大影響。無(wú)論是由于表面粗糙度引起的局部缺陷,、載臺(tái)平整度問(wèn)題還是輥筒的同心度問(wèn)題,,都可能導(dǎo)致間隙高度和涂層珠穩(wěn)定性在基材長(zhǎng)度上發(fā)生變化,。

     

    系統(tǒng)的精確公差將取決于您涂布的溶液和使用的加工參數(shù)。

     

    操作系統(tǒng)時(shí),,狹縫頭移動(dòng)到基材上方位置的運(yùn)動(dòng)可以手動(dòng)或自動(dòng)控制,。自動(dòng)控制的優(yōu)勢(shì)在于,涂層的在線監(jiān)測(cè)可用作調(diào)整狹縫頭高度的反饋,。

     

    此外,,自動(dòng)移動(dòng)使得在間歇涂布中能夠快速升高/降低涂布頭,以獲得高度清晰的前沿和尾緣(leading and trailing edges),。通常,,間隙高度通過(guò)數(shù)字高度規(guī)或千分尺確定。這些固定在涂布頭支架上,,并測(cè)量相對(duì)于輥筒或載臺(tái)頂部的位置,。

     

     



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