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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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2020-11-16 閱讀(3559)
ICP / RIE蝕刻應(yīng)用范圍：
- Si，SiO2,，SiN蝕刻工藝
- Al,，Cr，Ti,，TiW,，Au，Mo等金屬蝕刻工藝
- 晶圓尺寸：一片,，4英寸,，6英寸晶圓
RIE 等離子刻蝕案例：
SiO2 / SiN蝕刻
80 sccm CF4，均勻性<5％,，在6英寸晶圓上
幾種功率水平下的壓力與蝕刻速率（如下圖）：
PlasmaSTAR®系列等離子處理系統(tǒng)適合處理所有的材料,，擁有模塊化腔室和電極配置，可滿足不同的等離子工藝和基片尺寸,。占地面積小,，觸摸屏計算機控制，多級程序控制和組件控制,，操作簡單,。用于研究,、工藝開發(fā)和批量生產(chǎn)，可輕松集成到自動化生產(chǎn)線和系統(tǒng)中,。
腔室/電極
PlasmaSTAR®模塊化腔室和電極組件是該系統(tǒng)的*功能,。腔室材料是硬質(zhì)陽極氧化鋁，耐腐蝕,。有幾種不同的電極設(shè)計,，包括用于反應(yīng)離子刻蝕（RIE）和平面處理的水冷平板電極，用于表面清洗或處理的交替托盤電極,，用于小化離子損傷的下游電極,，和用于普通的圓柱形等離子體處理的籠式電極。
標(biāo)配圓柱形“桶”式電極
用于光刻膠剝離和各向同性刻蝕
RIE電極（可選配）
用于各向異性蝕刻的水冷電極
隔板電極（可選配）
用于各向同性蝕刻,，標(biāo)配2塊電極
等離子體源
該系統(tǒng)可選配LF（KHz）或13.56（MHz）射頻電源以及自動匹配網(wǎng)絡(luò),。
真空泵系統(tǒng)
該系統(tǒng)配機械泵或帶羅茨鼓風(fēng)機的機械泵。根據(jù)所需的真空處理水平,，可提供不同尺寸大小的真空泵,。真空泵配有腐蝕性泵油（惰性泵油），適用于氧氣或其他腐蝕性化學(xué)應(yīng)用,。流量控制器（MFC）的氣體管路是標(biāo)配,。下游壓力控制器是選配。
電腦控制
觸摸屏電腦控制,，提供無線程序存儲,，多步驟工藝簡單易存，易于編程,，實時顯示工藝條件,。工藝處理可用條形碼讀取（選配）,。
其中較典型的等離子處理工藝包括：
? 等離子預(yù)處理
? 光刻膠去膠
? 表面處理
? 各向異性和各向同性蝕刻
? 故障分析應(yīng)用
? 材料改性
? 封裝清洗
? 鈍化層刻蝕
? 聚酰胺刻蝕
? 促進(jìn)粘合
? 生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用
? 聚合反應(yīng)
? 混合清洗
? 預(yù)鍵合清洗
