對流輻射溫控系統(tǒng)
有多種對流輻射溫控系統(tǒng)可供選擇,，能滿足您對溫度范圍的要求。雖然通常使用CTD 600 TDR和CTD 450 TDR基本可以滿足所有應(yīng)用需求,，但是CTD 180 是wei一一個(gè)基于 Peltier 技術(shù)的對流控溫系統(tǒng),，無需使用液氮即可進(jìn)行低溫測量。 CTD 1000 溫控設(shè)備主要用于玻璃或鋁熔體等非聚合物樣品,。
CCD 數(shù)字眼攝像頭
使用數(shù)字眼記錄并顯示圖像或視頻數(shù)據(jù)組,，之后選擇直接顯示在圖表中，并分配到其對應(yīng)時(shí)間的測量點(diǎn),。
其他特性的測量
憑借 MCR 流變儀的 Toolmaster™ 功能（自動識別和配置所連接的設(shè)備）以及高精度法蘭,，該儀器可輕松快速地裝配設(shè)備，例如用于對高性能塑料和潤滑油進(jìn)行摩擦分析的摩擦學(xué)系統(tǒng),，或者用于 SAXS 或 SALS 系統(tǒng)或介電譜-流變學(xué)設(shè)備等結(jié)構(gòu)分析的光學(xué)測量系統(tǒng)或介電測量系統(tǒng),。
CTD 180 濕度附件
相對濕度影響樣品的流變學(xué)和力學(xué)特性。CTD 180 對流控溫設(shè)備的濕度選項(xiàng),，能夠在控制溫度和濕度的條件下進(jìn)行流變測量和動態(tài)力學(xué)分析,，可以用于防止樣品干燥。該選項(xiàng)允許在受控濕度下研究材料的特性,。
液氮蒸發(fā)控制單元
液氮蒸發(fā)控制單元 (EVU) 可準(zhǔn)確控制溫度（從 -160 °C 起）,，而無溫度梯度。液氮在單獨(dú)的儲罐中被持續(xù)蒸發(fā),，并被傳輸至測量池中,。這種持續(xù)蒸發(fā)無脈沖式控制，有利于的溫度控制,，這是電磁閥脈沖式控制無法達(dá)到的,。
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