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德國(guó)BUSCH廢氣處理系統(tǒng)

普旭真空為半導(dǎo)體,、LCD及相關(guān)行業(yè)提供了應(yīng)用廣泛的新一代廢氣處理系統(tǒng)。高效的廢氣處理技術(shù)提供凈化到閾限值以下的氣體,，同時(shí)滿足現(xiàn)有的和發(fā)展中的要求,。

產(chǎn)品型號(hào)

無(wú)焰催化處理技術(shù)（AFC）

AFC是結(jié)合了無(wú)焰催化熱氧化和濕法處理技術(shù)的高溫催化劑系統(tǒng),。用于 集成到高效單一系統(tǒng)中,，旨在減少易燃，水溶性氣體并使NF3可容納高達(dá)3000SLM的高氣流,。

技術(shù)特點(diǎn)：

››在半導(dǎo)體應(yīng)用和AMOLED流程中（使用大量生成氣體和NF3的粉末）非常適合CVD工藝（使用NF3作為吹掃氣體）,。

››金屬蝕刻應(yīng)用的完美解決方案。

››由于電加熱器和廢氣反應(yīng)熱，催化劑區(qū)域始終保持高溫,，而沒(méi)有燃燒額外的燃料（LNG）,。

››減少NOx生成

››粉末和水溶性氣體被捕獲在多級(jí)潤(rùn)濕區(qū)中

››降低了運(yùn)行成本

››易于維護(hù)和濾芯更換

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濕法-等離子-濕法處理技術(shù)（APW）

APW是一個(gè)集成于單一系統(tǒng)的濕法-等離子-濕法處理技術(shù)的組合，是氧化物和多晶硅蝕刻工藝應(yīng)用的理想選擇,。

技術(shù)特點(diǎn)：

››創(chuàng)新的濕法等離子分離設(shè)計(jì)

››耐用的反應(yīng)堆等離子炬和電源設(shè)計(jì)

››具有高氣體DRE（％）的穩(wěn)定性能

››在廢氣進(jìn)入等離子反應(yīng)器之前,，先將副產(chǎn)物和水溶性氣體進(jìn)行預(yù)濕區(qū)去除

››有效減少CF4，C2F6,，SF6等PFCs

››核心零件的使用壽命長(zhǎng)和維護(hù)周期

››易于清潔和預(yù)防性維護(hù)

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燃燒-濕法處理（ABW）

ABW是集成于單一系統(tǒng)中燃燒和濕法處理技術(shù)的組合，旨在有效減少PFCs,，是CVD和蝕刻工藝應(yīng)用的理想選擇,。

技術(shù)特點(diǎn)：

››創(chuàng)新的快速燃燒濕室分離設(shè)計(jì)

››多個(gè)安全聯(lián)鎖

››燃燒室?guī)в兴浔跈C(jī)制的湍流火焰

››燃燒過(guò)程中可能產(chǎn)生的粉末和水溶性氣體被捕獲在多級(jí)潤(rùn)濕區(qū)

››有效減少CF4，C2F6,，SF6等PFCs

››性能穩(wěn)定

››運(yùn)行成本低

››易于清潔和預(yù)防性維護(hù)

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熱式-濕法處理技術(shù)（ATW）

技術(shù)特點(diǎn)：

ATW將電熱和濕法處理技術(shù)結(jié)合在一個(gè)系統(tǒng)中,，該系統(tǒng)旨在容納高達(dá)4000 SLM的總氣流，是重粉生成和腐蝕性應(yīng)用的理想選擇,。

››創(chuàng)新的快速熱濕室分離設(shè)計(jì)

››多個(gè)安全聯(lián)鎖

››兩種減排方法的組合,，即熱濕法（通過(guò)易燃和發(fā)火性氣體的無(wú)焰熱氧化改變工藝氣體的化學(xué)性質(zhì)）和水溶解（對(duì)于水溶性氣體）

››易于清潔和預(yù)防性維護(hù)

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濕法處理技術(shù)（AWE）

技術(shù)特點(diǎn)：

AWE濕式洗滌器是適應(yīng)高H2和金屬粉末生成應(yīng)用的理想選擇。

››金屬蝕刻應(yīng)用的完美解決方案

››*的安全性和正常運(yùn)行時(shí)間

››四個(gè)獨(dú)立的反應(yīng)室,，配備智能入口防止堵塞功能和強(qiáng)大的文丘里管裝置

››內(nèi)置水循環(huán)系統(tǒng)

››降低了運(yùn)營(yíng)成本

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