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更新時(shí)間：2024-08-19 15:38:22
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晶圓光致發(fā)光和缺陷檢測(cè)系統(tǒng)Imperia系統(tǒng)可檢測(cè)并分類晶圓缺陷,實(shí)現(xiàn)光致發(fā)光（PL）生產(chǎn)監(jiān)控,。
晶圓光致發(fā)光和缺陷檢測(cè)系統(tǒng)將這兩個(gè)外延后計(jì)量篩選功能組合到一個(gè)高通量系統(tǒng)中,，可最大限度地減少寶貴的晶圓廠空間使用和盒處理時(shí)間,。該產(chǎn)品可為用戶提供顯著的經(jīng)濟(jì)節(jié)約（例如：準(zhǔn)確預(yù)測(cè)MOCVD反應(yīng)器產(chǎn)量和PM計(jì)劃）,。
晶圓光致發(fā)光和缺陷檢測(cè)系統(tǒng)特點(diǎn)
高密度光譜光致發(fā)光PL映射
晶圓缺陷分析和分類
高分辨率外延層厚度和歸一化反射率成像
晶圓形狀輪廓和三維翹曲重建
高密度光譜PL映射：裸晶片和圖案化晶片上的峰值λ,、峰值強(qiáng)度、半高寬和其他光子學(xué)相關(guān)參數(shù)
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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