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這款紫外掩膜曝光機是采用紫外LED冷光源的紫外曝光機和掩膜曝光機,，是一種冷光源紫外LED掩膜曝光裝置，它提供標(biāo)準(zhǔn)的365nm紫外線,，同時可根據(jù)用戶需求提供385nm, 395nm 和405nm紫外光源,適合光學(xué),，生物科技，微電子,，晶圓鍵合,，固化，細(xì)胞培養(yǎng)等多種應(yīng)用,，廣泛用于紫外曝光,。
紫外掩膜曝光機是*單色紫外發(fā)射，具有35mW/cm^2的功率密度,，在4英寸的面積上光源均勻度搞到+/-10%, 是理想的高精度紫外曝光機,。
這套紫外掩膜曝光機采用了的LED光源技術(shù)，*實現(xiàn)單波長紫外冷光源照明,，有效消除熱效應(yīng),，非常適合實驗室或超凈間的紫外曝光使用。
紫外掩膜曝光機結(jié)構(gòu)緊湊,，方便移動,，采用觸摸屏控制操作，*有效安全控制紫外曝光室,。
紫外掩膜曝光機的LED紫外光源壽命高達1萬小時,，非常可靠而耐用,，*,，非常方便使用。

紫外掩膜曝光機特點
非常緊湊,，桌上使用設(shè)計
*的紫外單色LED冷光源
zui大工作面積為4英寸晶圓
適合所有光刻膠
分辨率：2微米
無需預(yù)熱,，直接開機使用
實時溫度控制功能確保均勻曝光
紫外照明功率強度可調(diào)
可單次曝光或連續(xù)曝光
適合光學(xué)，生物科技,，微電子,，晶圓鍵合，固化,，細(xì)胞培養(yǎng)等多種應(yīng)用

紫外掩膜曝光機參數(shù)
波長：365nm 或405nm 任選
功率密度：40mW/cm^2
曝光過程中襯底溫度上升：<1攝氏度
曝光時間：1秒到18小時
可編程控制循環(huán)：10個
分辨率：2微米
外部尺寸：260x 260x260mm
重量：8.2kg
彩色觸摸屏：5.7英寸
供電要求：230V
用電功耗：180W