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紫外掩膜曝光系統(tǒng)是采用紫外LED冷光源的LED紫外曝光機(jī)和LED掩膜曝光機(jī)，是一種冷光源紫外LED掩膜曝光裝置,，它提供標(biāo)準(zhǔn)的365nm紫外線,可適用6英寸晶圓,，兼容硬接觸和軟接觸過(guò)程,，并具有可變掩膜和襯底距離控制功能,。

紫外掩膜曝光系統(tǒng)適合光學(xué),，生物科技，微電子,，晶圓鍵合，固化,，細(xì)胞培養(yǎng)等多種應(yīng)用，廣泛用于紫外曝光固化,。
紫外掩膜曝光系統(tǒng)是單色紫外發(fā)射，具有35mW/cm^2的功率密度,，在6英寸的面積上光源均勻度搞到+/-10%, 是理想的高精度紫外曝光機(jī)。
這套紫外掩膜曝光系統(tǒng)采用了**的LED光源技實(shí)現(xiàn)單波長(zhǎng)紫外冷光源照明,，有效消除熱效應(yīng)，非常適合實(shí)驗(yàn)室或超凈間的紫外曝光使用,。
紫外掩膜曝光系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊，方便移動(dòng)，采用觸摸屏控制操作,，有效安全控制自我曝光室。
紫外掩膜曝光系統(tǒng)的LED紫外光源壽命高達(dá)1萬(wàn)小時(shí),，非常可靠而耐用,，不需要日常維護(hù)，非常方便使用,。

紫外掩膜曝光系統(tǒng)特點(diǎn)
非常緊湊,，桌上使用設(shè)計(jì)
的紫外單色LED冷光源
***大工作面積為4英寸晶圓
適合所有光刻膠
分辨率：2微米
無(wú)需預(yù)熱,，直接開(kāi)機(jī)使用
實(shí)時(shí)溫度控制功能確保均勻曝光
紫外照明功率強(qiáng)度可調(diào)
可單次曝光或連續(xù)曝光
適合光學(xué)，生物科技,，微電子,，晶圓鍵合，固化,，細(xì)胞培養(yǎng)等多種應(yīng)用

紫外掩膜曝光系統(tǒng)參數(shù)
波長(zhǎng)：365nm
功率密度：40mW/cm^2
曝光過(guò)程中襯底溫度上升：<1攝氏度
曝光時(shí)間：1秒到18小時(shí)
可編程控制循環(huán)：10個(gè)
分辨率：2微米
外部尺寸：260x 260x260mm
重量：8.2kg
彩色觸摸屏：5.7英寸
供電要求：230V
用電功耗：200W