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貨物所在地:上海上海市
所在地: 歐洲
更新時(shí)間:2024-08-22 13:15:29
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這款紫外掩膜曝光系統(tǒng)是采用紫外LED冷光源的LED紫外曝光機(jī)和LED掩膜曝光機(jī),,是一種冷光源紫外LED掩膜曝光裝置,它提供標(biāo)準(zhǔn)的365nm紫外線,可適用6英寸晶圓,,兼容硬接觸和軟接觸過程,,并具有可變掩膜和襯底距離控制功能。
紫外掩膜曝光系統(tǒng)適合光學(xué),,生物科技,,微電子,晶圓鍵合,,固化,,細(xì)胞培養(yǎng)等多種應(yīng)用,廣泛用于紫外曝光固化,。
紫外掩膜曝光系統(tǒng)是*單色紫外發(fā)射,,具有35mW/cm^2的功率密度,在6英寸的面積上光源均勻度搞到+/-10%, 是理想的高精度紫外曝光機(jī),。
這套紫外掩膜曝光系統(tǒng)采用了的LED光源技術(shù),,*實(shí)現(xiàn)單波長紫外冷光源照明,有效消除熱效應(yīng),,非常適合實(shí)驗(yàn)室或超凈間的紫外曝光使用。
紫外掩膜曝光系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊,,方便移動(dòng),,采用觸摸屏控制操作,*有效安全控制自我曝光室,。
紫外掩膜曝光系統(tǒng)的LED紫外光源壽命高達(dá)1萬小時(shí),,非??煽慷陀茫?,,非常方便使用,。
紫外掩膜曝光系統(tǒng)特點(diǎn)
非常緊湊,桌上使用設(shè)計(jì)
*的紫外單色LED冷光源
zui大工作面積為4英寸晶圓
適合所有光刻膠
分辨率:2微米
無需預(yù)熱,,直接開機(jī)使用
實(shí)時(shí)溫度控制功能確保均勻曝光
紫外照明功率強(qiáng)度可調(diào)
可單次曝光或連續(xù)曝光
適合光學(xué),,生物科技,微電子,,晶圓鍵合,,固化,細(xì)胞培養(yǎng)等多種應(yīng)用
紫外掩膜曝光系統(tǒng)參數(shù)
波長:365nm
功率密度:40mW/cm^2
曝光過程中襯底溫度上升:<1攝氏度
曝光時(shí)間:1秒到18小時(shí)
可編程控制循環(huán):10個(gè)
分辨率:2微米
外部尺寸:260x 260x260mm
重量:8.2kg
彩色觸摸屏:5.7英寸
供電要求:230V
用電功耗:200W
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)