真空鍍碳儀是目前較為先進(jìn)的對(duì)樣品進(jìn)行預(yù)處理的儀器,。主要適用于掃描電子顯微（SEM）和X射線(xiàn)微觀分析等表征工作前的鍍碳處理。*的蒸發(fā)源反饋控制技術(shù)保證了20nm厚的桿狀蒸發(fā)源也能夠正常工作,。同時(shí),，該產(chǎn)品結(jié)構(gòu)合理緊湊，易于操作,，抽放氣周期較快,。
技術(shù)特點(diǎn)：
1、電流,、電壓檢測(cè)器和先進(jìn)的反饋控制技術(shù)使得鍍碳過(guò)程穩(wěn)定,、高效。
2,、脈沖,、連續(xù)模式隨意切換。
3,、提供“手動(dòng)”和“自動(dòng)”兩種模式,。
①手動(dòng)模式下：可調(diào)節(jié)電壓和時(shí)間旋鈕來(lái)控制鍍 碳工藝,；
?、谧詣?dòng)模式下：客戶(hù)只需提前設(shè)定好 程序，鍍碳儀就按照您的指令運(yùn)行。,，易于操作,，抽放氣周期較快。
碳蒸發(fā)控制：
真空鍍碳儀對(duì)碳棒－碳蒸發(fā)源使用*的集成的反饋控制設(shè)計(jì),。
電流和電壓通過(guò)磁控頭的傳感線(xiàn)監(jiān)控,，蒸發(fā)源作為反饋回路中的一部分被控制。該蒸發(fā)裝置使常規(guī)的碳棒具有優(yōu)良的穩(wěn)定性和重現(xiàn)性,。功率消耗低,，碳棒具有異常的重新蒸鍍特性。
蒸發(fā)源使用兩步超純碳棒,。
蒸發(fā)源可以手動(dòng)“脈沖”或“連續(xù)”的方式進(jìn)行鍍膜,。“脈沖”方式如果和膜厚監(jiān)測(cè)儀一起使用，可以準(zhǔn)確得到所需要的膜厚,。自動(dòng)方式下的操作非常方便,，操作者只要設(shè)定電壓和時(shí)間，可以得到一致的鍍膜效果,。
真空鍍碳儀的樣品室：
1,、樣品室的組件設(shè)計(jì)方式可適應(yīng)多種附件使用。
2,、通過(guò)簡(jiǎn)單調(diào)節(jié)工作距離,，可方便地調(diào)節(jié)蒸發(fā)速率。
3,、*的標(biāo)準(zhǔn)化高/低真空壓力調(diào)節(jié)通過(guò)精密針閥完成,。
4、高真空用于*高質(zhì)量地鍍膜,，如用于TEM制樣,。
5、低真空用于TEM柵網(wǎng)的輝光放電清潔以及掃描電鏡觀察中形貌復(fù)雜樣品的鍍膜,。
6,、對(duì)于SEM、EDS/WDS和探針?lè)治?，旋轉(zhuǎn)－行星轉(zhuǎn)動(dòng)－傾斜樣品臺(tái)可對(duì)同時(shí)多個(gè)樣品進(jìn)行一致的鍍膜處理,。
7、旋轉(zhuǎn)－傾斜臺(tái)特別為T(mén)EM樣品處理設(shè)計(jì),，而且可以放置25x75mm的玻片,。
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