真空鍍碳儀是目前較為先進(jìn)的對(duì)樣品進(jìn)行預(yù)處理的儀器。主要適用于掃描電子顯微（SEM）和X射線微觀分析等表征工作前的鍍碳處理。*的蒸發(fā)源反饋控制技術(shù)保證了20nm厚的桿狀蒸發(fā)源也能夠正常工作,。同時(shí),，該產(chǎn)品結(jié)構(gòu)合理緊湊，易于操作,，抽放氣周期較快,。
本產(chǎn)品結(jié)構(gòu)緊湊，所占空間小,。樣品室直徑150mm,，可快速抽真空進(jìn)行鍍膜處理，處理周期約10分鐘,。高真空條件下使用超純的碳棒為嚴(yán)格的高分辨掃描電鏡,、透射電鏡、EBSD及探針分析提供高質(zhì)量的鍍膜處理,。
主要功能：
該鍍碳儀主要用來在非導(dǎo)電材料表面蒸發(fā)或者濺射沉積納米導(dǎo)電薄膜,，用來提高樣品的表面導(dǎo)電性能，同時(shí)由于厚度僅為幾個(gè)納米,，可以很好保持樣品原始的表面形貌,。
真空鍍碳儀的技術(shù)特點(diǎn)：
1、電流,、電壓檢測(cè)器和先進(jìn)的反饋控制技術(shù)使得鍍碳過程穩(wěn)定,、高效。
2,、脈沖,、連續(xù)模式隨意切換。
3,、提供“手動(dòng)”和“自動(dòng)”兩種模式,。
主要特性：
1、電壓控制的碳棒具有多次蒸發(fā)能力,；
2,、反饋控制可以得到準(zhǔn)確一致的鍍膜厚度；
3,、可選擇操作方法優(yōu)化鍍膜過程,；
4、繁忙條件下可進(jìn)行自動(dòng)蒸發(fā)控制,；
5,、低成本高分辨膜厚監(jiān)測(cè)儀保證可重復(fù)的鍍膜效果；
6,、80L/s的分子渦輪泵可快速地使直徑150mm的樣品室達(dá)到鍍膜要求的真空,；
7、可配備無油渦旋式真空泵選件。
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