真空鍍碳儀是目前較為先進(jìn)的對(duì)樣品進(jìn)行預(yù)處理的儀器,。主要適用于掃描電子顯微（SEM）和X射線微觀分析等表征工作前的鍍碳處理,。*的蒸發(fā)源反饋控制技術(shù)保證了20nm厚的桿狀蒸發(fā)源也能夠正常工作。同時(shí),，該產(chǎn)品結(jié)構(gòu)合理緊湊,，易于操作,，抽放氣周期較快。
本產(chǎn)品結(jié)構(gòu)緊湊,，所占空間小,。樣品室直徑150mm，可快速抽真空進(jìn)行鍍膜處理,，處理周期約10分鐘,。高真空條件下使用超純的碳棒為嚴(yán)格的高分辨掃描電鏡、透射電鏡,、EBSD及探針?lè)治鎏峁└哔|(zhì)量的鍍膜處理,。
主要功能：
該鍍碳儀主要用來(lái)在非導(dǎo)電材料表面蒸發(fā)或者濺射沉積納米導(dǎo)電薄膜，用來(lái)提高樣品的表面導(dǎo)電性能,，同時(shí)由于厚度僅為幾個(gè)納米,，可以很好保持樣品原始的表面形貌。
真空鍍碳儀的技術(shù)特點(diǎn)：
1,、電流,、電壓檢測(cè)器和先進(jìn)的反饋控制技術(shù)使得鍍碳過(guò)程穩(wěn)定、高效,。
2、脈沖,、連續(xù)模式隨意切換,。
3、提供“手動(dòng)”和“自動(dòng)”兩種模式,。
主要特性：
1,、電壓控制的碳棒具有多次蒸發(fā)能力；
2,、反饋控制可以得到準(zhǔn)確一致的鍍膜厚度,；
3、可選擇操作方法優(yōu)化鍍膜過(guò)程,；
4,、繁忙條件下可進(jìn)行自動(dòng)蒸發(fā)控制；
5,、低成本高分辨膜厚監(jiān)測(cè)儀保證可重復(fù)的鍍膜效果,；
6、80L/s的分子渦輪泵可快速地使直徑150mm的樣品室達(dá)到鍍膜要求的真空,；
7,、可配備無(wú)油渦旋式真空泵選件。
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