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CVD系統(tǒng)

CVD系統(tǒng)
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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào)
  • 品牌 其他品牌
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 天津市

更新時(shí)間:2025-03-07 11:02:32瀏覽次數(shù):12913

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產(chǎn)品創(chuàng)新點(diǎn)
CVD成長(zhǎng)系統(tǒng)是利用氣態(tài)化合物或化合物的混合物在基體受熱面上發(fā)生化學(xué)反應(yīng),,從而在基體表面上生成不揮發(fā)涂層的一種薄膜材料制備系統(tǒng),,在國內(nèi)屬于*水平
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,冶金
CVD系統(tǒng)系周期作業(yè),,供企業(yè)實(shí)驗(yàn)室,,大專院校,,科研院所等單位選用,,設(shè)備為用戶提供具體真空、可控氣氛及高溫的實(shí)驗(yàn)環(huán)境,,應(yīng)用在半導(dǎo)體,,納米技術(shù),碳纖維等新材料新工藝領(lǐng)域,。

CVD系統(tǒng)適用領(lǐng)域:

    CVD系統(tǒng)設(shè)備由沉積溫度控件,、沉積反應(yīng)室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據(jù)用戶需要設(shè)計(jì)生產(chǎn),,除了主要應(yīng)用在碳納米材料制備行業(yè)外,,現(xiàn)在正在使用在許多行業(yè),包括納米電子學(xué),、半導(dǎo)體、光電工程的研發(fā),、涂料等領(lǐng)域 ,。

    CVD成長(zhǎng)系統(tǒng)是利用氣態(tài)化合物或化合物的混合物在基體受熱面上發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而在基體表面上生成不揮發(fā)涂層的一種薄膜材料制備系統(tǒng),。

CVD系統(tǒng)產(chǎn)品的特點(diǎn):
    1.兼容,、常壓、微正壓多種主流的生長(zhǎng)模式
    2.可以在1000Pa-0.1Pa之間任意氣壓下進(jìn)行石墨烯的生長(zhǎng)
    3.使用計(jì)算機(jī)控制,,可以設(shè)置多種生長(zhǎng)參數(shù)
    4.可以制備高質(zhì)量,,大面積石墨烯等碳材料,,尺寸可達(dá)數(shù)厘米,研究動(dòng)力學(xué)過程
    5. 沉積效率高,;薄膜的成分可控,,配比范圍大;厚度范圍廣,,由幾百埃至數(shù)毫米,,可以實(shí)現(xiàn)厚膜沉積且能大量生產(chǎn)

產(chǎn)品用途:

此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜,、陶瓷基片導(dǎo)電率測(cè)試,、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控

生長(zhǎng)、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結(jié)真空淬火退火,,快速降溫等工藝實(shí)驗(yàn),。

產(chǎn)品組成:

配置:

1.1200度開啟式真空管式爐(可選配多溫區(qū))。

2.滑動(dòng)系統(tǒng)分為手動(dòng),、電動(dòng)滑動(dòng),,并配有風(fēng)冷系統(tǒng)。

3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)

4.真空系統(tǒng)(可選配中真空或高真空)    




控制電路選用模糊PID程控技術(shù),,該技術(shù)控溫精度高,,熱慣性小,溫度不過沖,,性能可靠,,操作簡(jiǎn)單。



中真空系統(tǒng)具有真空度上下限自動(dòng)控制功能,,高真空系統(tǒng)采用高壓強(qiáng),,耐沖擊分子泵,防止意外漏氣造成分子泵損壞,,延長(zhǎng)系統(tǒng)使用壽命,。

電動(dòng))滑動(dòng)系統(tǒng)采用溫度控制器自動(dòng)控制爐體移動(dòng),等程序完成,,爐體按設(shè)定的速度滑動(dòng),,因有滑動(dòng)限位功能爐體不會(huì)發(fā)生碰撞,待樣品露出爐體后,,通過風(fēng)冷系統(tǒng)快速降溫,。

 


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