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電感耦合等離子體質譜在半導體高純材料分析中的應用

檢測樣品:半導體高純材料

檢測項目:痕量雜質元素

方案概述:本文綜述了近十幾年來電感耦合等離子體質譜(ICP-MS)在半導體行業(yè)高純材料分析方面的應用,分別討論了IC硅片表面,、光伏硅材料,、三氯氫硅,、四氯化硅,、高純試劑,、超純水,、高純氣等物質中痕量雜質元素的分析方法,。

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更新時間2024年05月24日

上傳企業(yè)上海美析儀器有限公司

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本文綜述了近十幾年來電感耦合等離子體質譜(ICP-MS)在半導體行業(yè)高純材料分析方面的應用,分別討論了 IC 硅片表面,、光伏硅材料,、三氯氫硅,、四氯化硅、高純試劑,、超純水,、高純氣等物質中痕量雜質元素的分析方法。

電感耦合等離子體質譜(ICP-MS)是80 年代發(fā)展起來的新的檢測技術,,已成為當代蕞薔有力的元素分析手段之一,其以桌越的痕量分析能力,,被廣泛應用于多個領域,。對痕量分析要求最高的,莫過于在半導體工業(yè)中對高純材料的雜質分析,,本文對近十幾年來電感耦合等離子體質譜在半導體工業(yè)高純材料方面的分析應用做一綜述,,分別討論了IC硅片表面、光伏硅材料,、三氯氫硅,、四氯化硅、高純試劑,、超純水,、高純氣等物質中痕量雜質元素的分析方法。

 

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