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K975X渦輪蒸鍍儀是一個多用途系統(tǒng)，它具有靈活性和模塊化擴展功能,，以適應不同的樣品制備,。
它可從蒸籃和坩鍋進行碳蒸發(fā)、金屬蒸發(fā)并且可選濺射附件,。
K975X可應用一系列成熟技術(shù),，包括鍍碳及TEM覆形，碳/金屬蒸發(fā),、低角度Shadowing和通過使用雙源蒸發(fā)進行順序涂層,，可選的濺射鍍膜附件能適用于各種靶材。
通過使用微處理控制器,，更增強了系統(tǒng)的靈活性,，用戶很容易附加各種可選件，但是這些“缺省”都是經(jīng)過優(yōu)化操作設計,，使得全自動和手動操作均可實現(xiàn)*操作,。
*的抽屜式樣品裝載系統(tǒng)使用戶方便放入各種樣品，鉸鏈式頂蓋結(jié)構(gòu)很容易達到系統(tǒng)其它區(qū)域,。
渦輪分子泵安裝在系統(tǒng)外部,，可方便安裝及更換，它的前級真空為旋轉(zhuǎn)真空泵,。 整個抽氣過程為全自動控制,，達到高真空后進行蒸發(fā)。本儀器為臺式,，可方便地進行使用控制,，使用中的疏忽也不易造成損壞。
K975S半導體晶圓蒸鍍儀
K975S基于K975X,，但是它具有特殊的裝載鎖定門,，可允許放入8英寸（200mm）晶圓鍍碳,，應用于FIB。
優(yōu)點 ● 容易操作 ● 使用靈活 ● 可靠的碳蒸發(fā) ● 方便的樣品裝載及卸載 ● 靈活的操作,，可選擇碳及金屬蒸發(fā)源 ● 在排氣過程中可防止樣品損壞 ● 系統(tǒng)靈活性強 ● 很容易測量金屬或碳沉積膜厚 |
特點 ● 全自動抽真空系統(tǒng) ● 樣品尺寸可達140毫米見方或200毫米直徑 ● *的“anti-stick”碳棒蒸發(fā)機構(gòu) ● 抽屜式樣品裝載系統(tǒng) ● 可選的蒸鍍類型,，具有四種蒸發(fā)設置 ● 約束的或開放的排氣控制 ● 可選用各種濺射靶材附件適用于一系列金屬 ● 可選膜厚監(jiān)測系統(tǒng) |
濺射電流：0到100mA
HT安全互鎖裝置
工作腔室：硼硅酸鹽玻璃，帶有鉸鏈式頂蓋,。250mm Dia x 300mm H（樣品可達直徑200 mm即8"）
安全鐘罩：聚碳酸酯,，維護時工作腔室很容易移開
重量：65Kg
碳槍：高度可調(diào)，傾斜0-20o ,，使用直徑6.15mm碳棒
渦輪分子泵：100L/Second為標準配置,，可選各種尺寸
真空范圍：ATM - 1x10-7mbar
工作真空達到時間：15分鐘內(nèi)
操作真空：10-5 mbar量級（可選液氮冷阱）
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