L2002A ossila紫外臭氧清洗機(jī)UVO
- 公司名稱 邁可諾技術(shù)有限公司
- 品牌 Ossila/歐西拉
- 型號(hào) L2002A
- 產(chǎn)地 英國
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2025/5/15 14:36:27
- 訪問次數(shù) 58
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勻膠機(jī),光刻機(jī),,顯影機(jī),,等離子清洗機(jī),紫外臭氧清洗機(jī),,紫外固化箱,,壓片機(jī),等離子去膠機(jī),,刻蝕機(jī),,加熱板
產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,綜合 |
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ossila紫外臭氧清洗機(jī)UVO為實(shí)驗(yàn)室級(jí)表面處理設(shè)備,通過高功率紫外光源(主波長185nm/254nm)激發(fā)臭氧反應(yīng),,實(shí)現(xiàn)高效無損傷清潔,。系統(tǒng)操作流程簡明:放置樣品于溫控托盤→關(guān)閉艙門→設(shè)置清洗時(shí)長(≤59分59秒)→啟動(dòng)運(yùn)行,即可快速分解有機(jī)污染物為揮發(fā)性物質(zhì),,獲得超潔凈表面(接近原子級(jí)清潔度),。
核心功能特性
廣譜清洗能力
適用基材:石英、硅,、氧化硅,、氮化硅、金,、鎳,、鋁、砷化鎵,、礬土,、玻璃、不銹鋼等
去除污染物:光刻膠、樹脂,、人體皮膚油脂,、溶劑殘留、表面油漬,、助焊劑,、單分子膜等
多功能工藝應(yīng)用
支持表面親水性改良、薄膜沉積預(yù)處理,、AFM/STM探針清洗,、光學(xué)元件清潔、表面氧化處理,、紫外固化及滅菌消毒等9類工藝,。工程優(yōu)化設(shè)計(jì)
抽屜式樣品臺(tái)(直徑153mm,最大承載厚度12mm)
LCD雙顯界面(實(shí)時(shí)顯示已用時(shí)間/剩余時(shí)間)
四燈管陣列配置(燈管尺寸150×15mm)
安全聯(lián)鎖機(jī)制(運(yùn)行中艙門鎖定防護(hù))
ossila紫外臭氧清洗機(jī)UVO技術(shù)參數(shù)說明
紫外燈類型:配置4支合成石英紫外燈管
波長輸出:雙波段185nm與254nm協(xié)同作用
燈管尺寸:單支尺寸150mm(長)×15mm(直徑)
驅(qū)動(dòng)參數(shù):4000V高壓供電,,工作電流30mA
電源規(guī)格:標(biāo)準(zhǔn)版230V/0.6A/50Hz,,可選配110V/1.2A/60Hz版本
使用壽命:T80標(biāo)準(zhǔn)下2000小時(shí),常規(guī)實(shí)驗(yàn)室使用周期8-10年
設(shè)備尺寸:長300mm×寬204mm×高227mm
安全防護(hù):三重保護(hù)(機(jī)械聯(lián)鎖,、超溫報(bào)警,、自動(dòng)斷電)
紫外臭氧清洗原理:
紫外臭氧清洗是一種光敏氧化過程,其中短波紫外線輻射被有機(jī)分子吸收以將其從表面分離 (通過與臭氧分子的化學(xué)反應(yīng)),。這是一種非常好的技術(shù),, 用于清洗基材表面的樹脂,清潔 溶劑的殘留物,,助焊劑,,油以及表面消毒等,所有這些有機(jī)污染物都會(huì)影響樣品表面的性能,。 與其他清潔技術(shù)(例如氧等離子體處理) 不同,,紫外臭氧清洗不會(huì)導(dǎo)致樣品表面損傷。
紫外臭氧系統(tǒng)使用高強(qiáng)度紫外光源,, 用 185nm 和 254nm 兩種波長的光照射目標(biāo)表面,。系統(tǒng) 內(nèi)存在的分子氧(O2) 通過波長小于 200 nm 的紫外線輻射分離產(chǎn)生兩個(gè)氧自由基(O•)。這 些自由基中的每一個(gè)隨后可以與另外的分子氧反應(yīng)產(chǎn)生臭氧(O3)分子,。未被殘余氧吸收 的 200nm 以上的 UV 輻射,,會(huì)被基材表面上存在的有機(jī)化學(xué)污染物強(qiáng)烈吸收,一旦被吸收,, 這會(huì)導(dǎo)致活性或有機(jī)自由基的產(chǎn)生,。這些反應(yīng)性有機(jī)物質(zhì)在與不穩(wěn)定的臭氧分子接觸時(shí),會(huì) 導(dǎo)致?lián)]發(fā)性物質(zhì)如 CO2 ,,H2O ,,N2 和短鏈有機(jī)化合物的形成,。這些揮發(fā)性化合物可以很容 易地從表面上分解吸收, 保持基材的清潔,。