0165 半導(dǎo)體納米級(jí)真空污染控制普旭真空泵
| 參考價(jià) | ￥ 128999 |
| 訂貨量 | ≥1件 |
- 公司名稱 東莞市飛粵真空科技有限公司
- 品牌 Busch/德國(guó)普旭
- 型號(hào) 0165
- 產(chǎn)地 中國(guó)東莞
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2025/3/25 17:05:39
- 訪問次數(shù) 20
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BUSCH普旭,，Rietschle里其樂/偉力,，Leybold萊寶，Becker貝克,，英國(guó)BOC Edwards愛德華,，日本ULVAC愛發(fā)科，Orion好利旺,，TAIKO大晃,，法國(guó)ALCATEL阿爾卡特，Pfeiffer普發(fā)等,。
| 泵軸位置 | 臥式 | 電壓 | 220/380/460V |
|---|---|---|---|
| 輸送介質(zhì) | 油泵 | 葉輪數(shù)目 | 單級(jí) |
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,食品/農(nóng)產(chǎn)品,化工,生物產(chǎn)業(yè),能源 | 重量 | 140kg |
半導(dǎo)體納米級(jí)真空污染控制普旭真空泵
1. 納米級(jí)潔凈度保障
- 零油霧反流技術(shù)：采用多層油霧分離系統(tǒng)（過濾效率＞99.999%）,，消除潤(rùn)滑油分子進(jìn)入工藝腔體的風(fēng)險(xiǎn)，確保晶圓表面0污染,。
- ISO 8573-1 Class 0認(rèn)證：通過國(guó)際無油認(rèn)證,，滿足EUV光刻、離子注入等超敏感環(huán)節(jié)的潔凈需求,，從源頭杜絕微粒缺陷,。
2. 耐腐蝕性能
- 特種合金+陶瓷涂層：泵體關(guān)鍵部件采用耐腐蝕合金與陶瓷復(fù)合涂層,，可長(zhǎng)期耐受Cl?、CF?,、HBr等強(qiáng)腐蝕性氣體,，設(shè)備壽命提升3倍以上。
- 智能氣體沖洗系統(tǒng)：自動(dòng)清除蝕刻副產(chǎn)物殘留,，避免泵內(nèi)結(jié)垢,，減少30%維護(hù)停機(jī)時(shí)間。
3. 穩(wěn)定性控制
- 動(dòng)態(tài)真空平衡技術(shù)：真空度波動(dòng)范圍控制在±0.1%以內(nèi),，保障ALD（原子層沉積）、PVD（物理氣相沉積）工藝的納米級(jí)均勻性,。
- 高溫持久運(yùn)行：在150℃高溫環(huán)境下連續(xù)運(yùn)行超10,000小時(shí)無衰減,，適配7×24小時(shí)量產(chǎn)節(jié)奏。
性能優(yōu)勢(shì)：為何選擇普旭,？
?? 能效革命：自適應(yīng)變頻技術(shù)降低30%能耗,，單臺(tái)年省電費(fèi)超5萬美元。
?? 智能物聯(lián)：搭載IoT傳感器實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)油溫,、振動(dòng),、真空度，預(yù)警準(zhǔn)確率達(dá)98%,，實(shí)現(xiàn)預(yù)測(cè)性維護(hù),。
??模塊化設(shè)計(jì)：支持與真空閥門、尾氣處理裝置無縫集成,，快速適配8/12英寸產(chǎn)線（推薦型號(hào)：COBRA NX系列）,。
?? 成本優(yōu)化：維護(hù)周期延長(zhǎng)至8,000小時(shí)，綜合運(yùn)維成本降低40%,。
普旭油式真空泵的半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用場(chǎng)景
? 光刻工藝：為EUV光刻機(jī)提供無油真空環(huán)境,，避免鏡頭污染導(dǎo)致的曝光精度下降。
? 薄膜沉積：在ALD/PVD設(shè)備中維持超高真空穩(wěn)定性,，確保3D NAND堆疊層厚度差＜0.1nm,。
? 蝕刻與清洗：抗腐蝕設(shè)計(jì)匹配干法蝕刻機(jī)，精準(zhǔn)控制刻蝕速率與側(cè)壁陡直度,。
? 封裝：在TSV硅通孔,、RDL重布線層工藝中實(shí)現(xiàn)微米級(jí)真空吸附定位，提升異構(gòu)集成良率,。
客戶見證：
- 臺(tái)積電5nm產(chǎn)線：采用普旭COBRA NX系列后,，因真空污染導(dǎo)致的晶圓報(bào)廢率下降0.8%，年增效益超1.2億美元,。
- 三星3D NAND工廠：在堆疊工藝中實(shí)現(xiàn)真空系統(tǒng)故障運(yùn)行,，產(chǎn)能爬坡速度提升25%,。
- 中芯國(guó)際28nm項(xiàng)目：國(guó)產(chǎn)替代方案通過SEMI標(biāo)準(zhǔn)驗(yàn)證，設(shè)備綜合效率（OEE）提升18%,。
在半導(dǎo)體制造邁向3nm,、2nm制程的今天，晶圓良率仍是決定企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力的核心指標(biāo),。然而,，真空系統(tǒng)的微量油霧反流、微粒殘留,、腐蝕氣體侵蝕等問題,，導(dǎo)致工藝腔體污染、薄膜沉積不均,、線路缺陷頻發(fā),，成為良率卡在95%的關(guān)鍵瓶頸。普旭（Busch）油式真空泵憑借納米級(jí)潔凈控制技術(shù)與半導(dǎo)體級(jí)穩(wěn)定性設(shè)計(jì),，為頭部芯片廠商提供從光刻到封裝的全程真空保障,，助力良率突破99%大關(guān)！
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