等離子清洗機應(yīng)用行業(yè)：

半導(dǎo)體行業(yè)

芯片粘接前處理,、引線框,、架的表面處理、 BGA 封裝等有效去除表面油性污垢和有機污染物粒子,。

材料行業(yè)

PI表面粗化,、PPS 蝕刻、PN 結(jié)去除,、 ITO 膜蝕刻ITO 涂覆前表面清洗,，提高粘接及涂覆的可靠性。

陶瓷行業(yè)

封裝,、點膠前處理,，有效去除表面油性污垢和有機污染物粒子，提升粘膠,、封裝質(zhì)量,。

PCB/FPC 行業(yè)

金屬鍵合前、塑封前、底部填充前處理,、光刻膠去除,、基板表面活化、鍍膜去除靜電及有機污染物,。

LED行業(yè)

點銀膠,、固晶前、引線鍵合前處理,、 LED 封裝,，去除污染物，加大粘合強度,，減少氣泡,，提高發(fā)光率。

產(chǎn)品結(jié)構(gòu)

真空等離子體表面處理系統(tǒng)主要包括三個部分：真空腔及真空系統(tǒng),，等離子體發(fā)生器,，控制系統(tǒng)。

真空腔及真空發(fā)生系統(tǒng)

真空腔固定于機柜框架內(nèi),，左右兩側(cè)為可拆門,，因此內(nèi)部的真空腔及真空系統(tǒng)的維修是極方便的。

真空發(fā)生系

統(tǒng)由波紋管,、KF 接頭,、真空泵以及油霧過濾器組成，核心部件真空泵(真空泵組),。

等離子體發(fā)生器

等離子體發(fā)生器在20Pa-100Pa間給電極板施加電壓,，產(chǎn)生低溫等離子體。利用高頻轉(zhuǎn)換技術(shù)形成高頻電 壓加到電極板上,，當(dāng)真空腔內(nèi)達到一定真空度時,，產(chǎn)生等離子體放電現(xiàn)象，放電后電路會自動調(diào)節(jié)電壓到適當(dāng)

值,，保證電路正常穩(wěn)定放電。

控制系統(tǒng)

本系統(tǒng)使用觸摸屏,、PLC,、 中文界面。設(shè)備的工藝流程控制：真空泵啟動->擋板閥開啟>達到設(shè)定的真空度->通入工藝氣體>RF 放電->工作時間到破真空->工作完成,。設(shè)備分自動和手動兩種方式,。

主要技術(shù)參數(shù)：

1 設(shè)備外觀：噴塑處理

外形尺寸：720（寬）×620（高）×600（深）不含機械泵

2 反應(yīng)倉材質(zhì)：不銹鋼、反應(yīng)倉尺寸：250（寬）×200（高）×250（深）

3 等離子體頻率：13.56MHz

4 射頻電源功率：0-300W 可調(diào)

5 設(shè)備功率：≤1kW

6 控制方式：

采用包括觸摸屏人機界面的 PLC 控制,，操作方式包括自動模式和手動模式,。在自動模式下將不同工藝參數(shù)按照配方方式管理，可同時存儲50組不同的配方。使用時只需要將相應(yīng)配方號調(diào)出即可,。設(shè)備參數(shù)分級管理,，設(shè)備操作員、工藝人員,、維護人員使用不同口令管理不同參數(shù),，提高設(shè)備安全性。手動模式用于實驗工藝以及設(shè)備維護維修,。

7 MFC 質(zhì)量流量計控制（標(biāo)準(zhǔn)配置2路）

8 氣體流量：

工藝氣體(氧,、氬等)： (0～200)ml/min  （標(biāo)準(zhǔn)氣壓,0℃)

9 工作氣體(標(biāo)配為氧、氬)接口壓力：0.1MPa  （若需其它氣體需作聲

明）凈化冷卻氣體（氮氣）接口壓力：0.5MPa

10 設(shè)備工作節(jié)拍：空運轉(zhuǎn)單次清洗時間≤5min

11 設(shè)備MES兼容接口：設(shè)備通過數(shù)據(jù)網(wǎng)絡(luò)將工藝參數(shù)傳輸至MES平臺更多選擇可咨詢,，如4寸等離子清洗機,、多層等離子清洗，更大尺寸等,。

質(zhì)保：一年