化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>光學(xué)儀器及設(shè)備>光學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)備>其它光學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)備> 德國(guó)Hellma CeBr3晶體材料
德國(guó)Hellma CeBr3晶體材料
- 公司名稱 北京漢達(dá)森機(jī)械技術(shù)有限公司
- 品牌 Hellma/德國(guó)豪瑪
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2025/1/3 17:08:27
- 訪問次數(shù) 160
聯(lián)系方式:邱佳悅13370157291 查看聯(lián)系方式
聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,,謝謝!
應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
---|
德國(guó)Hellma CeBr3晶體材料發(fā)射光譜峰值在370 nm
德國(guó)Hellma GmbH & Co. KG是一家成立于1922年的公司,由Karl Mayer創(chuàng)立,。Hellma最初以生產(chǎn)簡(jiǎn)單的光學(xué)玻璃比色皿起家,,這些產(chǎn)品主要用于旋光、比色和分光光度測(cè)試,。隨著科學(xué)行業(yè)的興旺,,特別是五十年代,,比色測(cè)試成為了定性分析和定量分析的常用方法,Hellma也積極開發(fā)和擴(kuò)展其產(chǎn)品系列以滿足新型比色皿的迅速增長(zhǎng)需求,。
主要產(chǎn)品:
Hellma比色皿
Hellma晶體材料
Hellma光學(xué)材料
Hellma光學(xué)玻璃
Hellma光學(xué)元件
Hellma晶體材料CeBr3
高分辨率:CeBr3晶體以其高分辨率而為人熟知,,在高能物理、核醫(yī)學(xué),、石油勘探,、環(huán)境監(jiān)測(cè)、安全檢查等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用,。
快速衰減時(shí)間:CeBr3晶體的衰減時(shí)間快速,,這使得它在需要快速響應(yīng)的應(yīng)用中表現(xiàn)出色。
低本底輻射:CeBr3晶體在1500-2200 keV能量范圍內(nèi),,自身本底輻射低于0.001c/s/cc,,這為低本底輻射應(yīng)用提供了優(yōu)勢(shì)。
高密度:CeBr3晶體的密度為5.18 g/cm3,,略高于LaBr3:5%Ce的5.07 g/cm3,,這與其較大的有效原子數(shù)(Zeff)有關(guān),分別為45.9和45.3,。
發(fā)射光譜特性:CeBr3晶體的Ce3?發(fā)射光譜峰值在370 nm,,與LaBr3:5%Ce的360 nm相比,略有不同,。
自吸收和再發(fā)射:CeBr3晶體的發(fā)射光譜會(huì)因樣本厚度的不同而有所變化,,這是由于閃爍自吸收和再發(fā)射過程引起的。
高能量分辨率:CeBr3晶體在662 keV的能量分辨率約為4%,,主要由閃爍自吸收和再發(fā)射過程限制,,這導(dǎo)致與LaBr3:5%Ce相比,光產(chǎn)量(LY)較低,。
高檢測(cè)靈敏度:在低于3 MeV的能量下,,CeBr3的平均檢測(cè)靈敏度比LaBr3:5%Ce高約5倍,對(duì)于40K的檢測(cè)高達(dá)16倍,。
抗輻射能力:CeBr3能夠承受1012 protons/cm2的質(zhì)子通量(>1 Mrad Siequivalent dose),,適用于空間應(yīng)用。
環(huán)境穩(wěn)定性:CeBr3晶體在空氣中易潮解,、易氧化,,需要避光密封保存,生長(zhǎng)過程中易分解,,造成晶體開裂,、透明度下降,對(duì)生長(zhǎng)環(huán)境、技術(shù)工藝要求較高,。
摻雜性能提升:CeBr3晶體可以通過摻雜其他元素如鍶(Sr)來提高性能,,0.2%的鍶摻雜量較為合適,,可以兼顧性能與生長(zhǎng)要求,。
型號(hào)示例:
Hellma晶體材料CeBr3
Hellma晶體材料Yb3+
Hellma晶體材料BaF2
Hellma晶體材料CaF2
Hellma晶體材料LBC:Ce
Hellma晶體材料CaF2:Eu
Hellma晶體材料CVD Zinc Sulfide
Hellma晶體材料Cleartran
Hellma晶體材料CVD Zinc Selenide
德國(guó)Hellma CeBr3晶體材料發(fā)射光譜峰值在370 nm