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德國豪瑪Hellma CaF2晶體材料
- 公司名稱 北京漢達(dá)森機(jī)械技術(shù)有限公司
- 品牌 Hellma/德國豪瑪
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時間 2025/1/3 15:34:47
- 訪問次數(shù) 135
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
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德國豪瑪Hellma CaF2晶體材料應(yīng)用于光學(xué)領(lǐng)域
德國Hellma GmbH & Co. KG是一家成立于1922年的公司,,由Karl Mayer創(chuàng)立,。Hellma最初以生產(chǎn)簡單的光學(xué)玻璃比色皿起家,這些產(chǎn)品主要用于旋光,、比色和分光光度測試,。隨著科學(xué)行業(yè)的興旺,特別是五十年代,,比色測試成為了定性分析和定量分析的常用方法,,Hellma也積極開發(fā)和擴(kuò)展其產(chǎn)品系列以滿足新型比色皿的迅速增長需求。
主要產(chǎn)品:
Hellma比色皿
Hellma晶體材料
Hellma光學(xué)材料
Hellma光學(xué)玻璃
Hellma光學(xué)元件
Hellma晶體材料CaF2
光學(xué)性能:Hellma Materials CaF2因其優(yōu)質(zhì)的光學(xué)質(zhì)量和在紫外(UV),、可見光(VIS)以及紅外(IR)光譜范圍內(nèi)的出色透射率而為人熟知,。其透光范圍寬,從0.125微米到10微米,,具有高寬帶透射率,,從深紫外到紅外(130nm至8μm)。
折射率和色散:CaF2具有較低的折射率(nd = 1.43384)和低光譜色散(vd = 95.23),,這使得它在光學(xué)設(shè)計(jì)中非常有用,,尤其是在需要低色散的場合。
激光耐久性:對于準(zhǔn)分子激光光學(xué)器件(157nm,、193nm,、248nm),CaF2展現(xiàn)出了出色的激光耐久性,。
輻射耐受性:CaF2對高能顆粒和輻射具有合格的抵抗力,。
尺寸:Hellma提供的CaF2晶體直徑可達(dá)420mm,甚至有些資料顯示直徑可達(dá)440mm,。
應(yīng)用領(lǐng)域:CaF2晶體被廣泛應(yīng)用于多種領(lǐng)域,,包括紅外光學(xué)、天文儀器,、空間光學(xué),、顯微鏡光學(xué)、光譜學(xué)、紫外光學(xué),、激光窗口,、準(zhǔn)分子激光光學(xué)以及微光刻光學(xué)。
物理化學(xué)性質(zhì):CaF2晶體具有良好的機(jī)械強(qiáng)度和抗潮性,,能在0.13至11.3微米波段范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)高透過率,,最高達(dá)95%。在大氣下使用溫度可達(dá)600℃,,真空干燥時可達(dá)800℃,。
晶體結(jié)構(gòu):CaF2晶體是典型的螢石型立方結(jié)構(gòu),空間群為5hO-Fm3m,,晶胞參數(shù)a=0.5462nm,。這種結(jié)構(gòu)含有豐富的間隙位置,使得高價態(tài)的陽離子容易摻入晶格,。
型號示例:
Hellma晶體材料CaF2
Hellma晶體材料BaF2
Hellma晶體材料Yb3+
Hellma晶體材料CeBr3
Hellma晶體材料LBC:Ce
Hellma晶體材料CaF2:Eu
Hellma晶體材料CVD Zinc Sulfide
Hellma晶體材料Cleartran
Hellma晶體材料CVD Zinc Selenide
德國豪瑪Hellma CaF2晶體材料應(yīng)用于光學(xué)領(lǐng)域