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蔡司X射線顯微鏡 Xradia 515 Versa

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蔡司顯微鏡北京中顯工業(yè)CT

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北京中顯恒業(yè)儀器儀表有限公司(簡(jiǎn)稱:北京中顯)是一家位于首都北京的科學(xué)儀器提供商,。北京中顯致力于把沿的科技和先進(jìn)的儀器設(shè)備引進(jìn)中國(guó),以科學(xué)嚴(yán)謹(jǐn)?shù)睦砟顬橹袊?guó)用戶提供科學(xué),、專業(yè),、高性價(jià)比的解決方案。
    北京中顯成立于2010年,,有12年的顯微光學(xué)服務(wù)經(jīng)驗(yàn),,除國(guó)產(chǎn)四大進(jìn)口品牌顯微鏡外,還代理銷售多家國(guó)產(chǎn)品牌顯微鏡,,積累了大量的行業(yè)應(yīng)用和顯微鏡用戶,。北京中顯擁有國(guó)內(nèi)外多家科學(xué)儀器的代理權(quán),是加拿大形創(chuàng)(Creaform 3D彩色掃描儀)的授權(quán)代理商,。北京中顯服務(wù)的客戶涵蓋傳統(tǒng)制造,、航空、航天,、船舶,、機(jī)械,、電子、鑄造,、冶金,、電力、石化,、地質(zhì)等行業(yè),,在高等院校、科研院所,、考古文博、質(zhì)量檢測(cè),、刑偵物證,、裝備制造、工礦企業(yè),、工業(yè)材料,、軍工系統(tǒng)、汽車零配件等領(lǐng)域都有我們長(zhǎng)期服務(wù)的客戶,。北京中顯積極響應(yīng)“中國(guó)制造2025”強(qiáng)國(guó)戰(zhàn)略的號(hào)召,,整合全球智力資源,引進(jìn)歐美先進(jìn)科技,,為中國(guó)制造業(yè)的提升和偉大復(fù)興的“中國(guó)夢(mèng)”實(shí)現(xiàn)努力做出自己的貢獻(xiàn),。
    北京中顯自2010年成立以來(lái),,通過(guò)自身過(guò)硬的實(shí)力和周到的服務(wù)迅速贏得了廣大客戶的認(rèn)可,,清華大學(xué)、北京大學(xué),、中科院大學(xué),、北京科技大學(xué)、中國(guó)地質(zhì)大學(xué),、中國(guó)礦業(yè)大學(xué),、中國(guó)公安大學(xué)、北京理工大學(xué),、北京航空航天大學(xué),、山東大學(xué)、中國(guó)海洋大學(xué),、河北大學(xué),、河北地質(zhì)大學(xué)、華北理工大學(xué),、山西大學(xué),、太原理工大學(xué)、鄭州大學(xué)、河南大學(xué),、河南理工大學(xué),、河南科技大學(xué)、青島科技大學(xué)等院校及公安部物證中心,、河南省公安廳、中國(guó)地質(zhì)科學(xué)院,、中科院天文臺(tái)、故宮博物院,、河南省文物考古研究院等政府和科研單位及中航工業(yè)科技集團(tuán)、宇通客車,、長(zhǎng)城汽車、平高電氣,、奔馳汽車、濟(jì)南重汽,、富士康、中通客車,、宇通客車,、洛陽(yáng)一拖、洛陽(yáng)軸承等企業(yè)都是北京中顯長(zhǎng)期服務(wù)的優(yōu)質(zhì)客戶,。北京中顯多次在政府采購(gòu)和企業(yè)招標(biāo)采購(gòu)中成為中標(biāo)供應(yīng)商,。
    在新時(shí)代,北京中顯將在現(xiàn)有的科學(xué)儀器專業(yè)提供商基礎(chǔ)上增加科技元素,,向科技型,、服務(wù)型公司轉(zhuǎn)型。通過(guò)不斷探索和持續(xù)創(chuàng)新,,為廣大用戶提供更先進(jìn)、更個(gè)性化的解決方案,。
    北京中顯自成立伊始就堅(jiān)持“為天地立心,、為生民立命、為往圣繼絕學(xué),、為萬(wàn)世開(kāi)太平”的經(jīng)營(yíng)理念,,在合法經(jīng)營(yíng),、照章納稅、提供就業(yè)的同時(shí)也不忘回報(bào)社會(huì),,公司積極參與社會(huì)公益,。為響應(yīng)國(guó)家精準(zhǔn)扶貧政策,北京中顯通過(guò)甘肅興華青少年助學(xué)基金會(huì)和清華大學(xué)研究生助教團(tuán)定點(diǎn)長(zhǎng)期資助河南省南召一中和青海省湟中一中資助優(yōu)秀貧困高中生各一名,。北京中顯還長(zhǎng)期資助“愛(ài)心包裹”活動(dòng),,中國(guó)扶貧基金會(huì)多次向頒發(fā)榮譽(yù)證書,這是國(guó)家對(duì)我公司長(zhǎng)期從事慈善事業(yè)的肯定與鼓勵(lì),。2019年,,經(jīng)河北省駐京辦推薦和考核北京中顯成為北京河北企業(yè)商會(huì)常務(wù)副會(huì)長(zhǎng)單位。

徠卡體視顯微鏡,徠卡偏光顯微鏡,徠卡金相顯微鏡,形創(chuàng)3D掃描儀

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 綜合

蔡司X射線顯微鏡 Xradia 515 Versa 是一款具有高性能和廣泛應(yīng)用的先進(jìn)顯微鏡,。

蔡司X射線顯微鏡 Xradia 515 Versa一,、性能特點(diǎn):

· 高分辨率成像:該顯微鏡具有 500nm 的真實(shí)空間分辨率,最小可實(shí)現(xiàn) 40nm 的體素,,可提供亞微米級(jí)的成像精度,,能夠清晰地呈現(xiàn)樣品的微觀細(xì)節(jié)

· 大工作距離下的高分辨能力:采用兩級(jí)放大架構(gòu),即光學(xué)放大和 X 射線幾何放大,,減少了對(duì)單級(jí)幾何放大的依賴性,,在大工作距離下依然保持亞微米級(jí)分辨率,可實(shí)現(xiàn)不同類型,、尺寸的樣品多尺度成像,,無(wú)需對(duì)樣品進(jìn)行復(fù)雜預(yù)處理或切割

· 多種襯度成像模式:支持吸收襯度和創(chuàng)新的相位襯度成像模式,可實(shí)現(xiàn)對(duì)軟材料或低原子序數(shù)材料的 3D 成像,,能夠更好地突出樣品的內(nèi)部結(jié)構(gòu)和特征,,為不同類型的樣品提供了更豐富的成像選擇

· 智能系統(tǒng)控制:配備了智能防撞系統(tǒng),如 ZEN navx 等用戶導(dǎo)向的控制軟件,,具有人性化的界面與流程設(shè)計(jì),,可將復(fù)雜操作即刻化繁為簡(jiǎn),確保儀器操作的安全性和便捷性,,同時(shí)還具備全自動(dòng)的參數(shù)推薦功能,可確保不同類型的樣品均能獲得高質(zhì)量圖像

· 基于AI的高級(jí)重構(gòu)技術(shù):兼容 ART 高級(jí)重構(gòu)工具箱,,利用 AI 技術(shù)提高成像效率和改善成像質(zhì)量,,能夠?qū)D像進(jìn)行降噪、增強(qiáng)對(duì)比度等處理,,使圖像更加清晰,、細(xì)節(jié)更加豐富,同時(shí)還能提高數(shù)據(jù)處理和重構(gòu)的速度,,縮短研究周期

· 可升級(jí)與拓展性:具有良好的可升級(jí)和拓展特性,,用戶可根據(jù)自身需求選擇原位接口,、4D 原位試驗(yàn)平臺(tái)、迭代重構(gòu),、自動(dòng)進(jìn)樣裝置,、平板探測(cè)器等多個(gè)拓展模塊,滿足不同的研究和應(yīng)用需求,,保護(hù)用戶投資

二,、技術(shù)參數(shù)

· X射線源:最高工作電壓 160kV,最大功率 10W1.

· 探測(cè)器:光電耦合物鏡探測(cè)器,,配備多種物鏡,,其中物鏡 0.4X 的最大三維視野 50mm,物鏡40X最高空間分辨率 500nm1.

·最大可測(cè)樣品尺寸:φ300mm×450mm1.

·原位測(cè)試力值:最大 5KN,,軸向位移最大10mm,,軸向位移速度 0.1mm/min -1mm/min1.

·原位拉伸試驗(yàn)臺(tái)的溫度范圍:﹣20℃ ~﹢160℃1.

三、應(yīng)用領(lǐng)域:

· 材料科學(xué):可用于電池,、金屬,、陶瓷、高分子,、混凝土等材料的三維無(wú)損分析,,如觀察軟復(fù)合材料中的裂縫、測(cè)量鋼材中的孔隙率等,,還可用于材料拉伸或壓縮斷裂行為和加熱試驗(yàn)的原位表征,,為材料的研發(fā)、質(zhì)量控制和性能優(yōu)化提供重要依據(jù)

· 生命科學(xué):適用于動(dòng)植物組織的微觀結(jié)構(gòu)三維成像,,如實(shí)現(xiàn)虛擬的組織學(xué)切片觀察,,對(duì)細(xì)胞和亞細(xì)胞特征進(jìn)行可視化,還可用于探究硬組織和軟組織以及生物的微觀結(jié)構(gòu),,為生命科學(xué)研究和醫(yī)學(xué)診斷提供有力支持

· 地球科學(xué):在地質(zhì),、油氣、礦物,、古生物等領(lǐng)域的三維成像方面具有重要應(yīng)用,,可用于表征巖心尺度上的非均質(zhì)性,并對(duì)孔隙結(jié)構(gòu)進(jìn)行量化,,還可進(jìn)行流體流動(dòng)測(cè)試,、紋理分析等,有助于更好地了解地球內(nèi)部結(jié)構(gòu)和礦產(chǎn)資源分布等124.

· 電子和半導(dǎo)體行業(yè):能夠?qū)﹄娮悠骷M(jìn)行形貌測(cè)量及失效分析,,如對(duì)完整封裝進(jìn)行無(wú)損亞微米成像來(lái)進(jìn)行缺陷定位和表征,,從而優(yōu)化工藝開(kāi)發(fā)并進(jìn)行失效分析,還可用于研究封裝的可靠性,,為電子元器件和半導(dǎo)體芯片的質(zhì)量檢測(cè)和故障診斷提供重要手段




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