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 本公司主要從事半導(dǎo)體進口設(shè)備及輔助材料、醫(yī)療檢測設(shè)備等多領(lǐng)域的銷售,,是一家集研發(fā),、制造、銷售為一體的企業(yè),。我們的主營業(yè)務(wù)涉及了研發(fā)銷售及加工材料及周邊產(chǎn)品,;電子光電產(chǎn)品設(shè)備研發(fā)組裝及銷售,半導(dǎo)體儀器設(shè)備銷售,;國內(nèi)貿(mào)易,、貨物及技術(shù)進出口,;醫(yī)療器械研發(fā)及銷售;醫(yī)用耗材及醫(yī)療用品的銷售等,。

本公司主要從事半導(dǎo)體進口設(shè)備及輔助材料,、醫(yī)療檢測設(shè)備等多領(lǐng)域的銷售,是一家集研發(fā),、制造,、銷售為一體的企業(yè)。我們的主營業(yè)務(wù)涉及了研發(fā)銷售及加工材料及周邊產(chǎn)品,;電子光電產(chǎn)品設(shè)備研發(fā)組裝及銷售,,半導(dǎo)體儀器設(shè)備銷售;國內(nèi)貿(mào)易,、貨物及技術(shù)進出口,;醫(yī)療器械研發(fā)及銷售;醫(yī)用耗材及醫(yī)療用品的銷售等

Futurrex紫外負性光刻膠NR7-1000P NR9-1000P NR5-8000



可在基本的水顯影劑中顯影的負性光刻膠


特性
厚度范圍 lt;0.1-120.0 µm
對波長小于380nm的靈敏度
優(yōu)于表面拓撲的線寬控制
直側(cè)壁適合任何膜厚
能夠在單次旋涂中涂覆100 µm厚的膜
由于應(yīng)用了150°C的軟烘烤,,烘烤時間更短(對于厚膜至關(guān)重要)
出色的光速,,可提高曝光量
有助于提高RIE中的功率密度,從而提高蝕刻速率和蝕刻產(chǎn)量
消除使用粘合促進劑
RIE /離子耐高溫 厚度 濕法蝕刻 厚度
增強附著力
NR7-250P 0.2um-0.6um NR9-250P 0.2um-0.6um
NR7-1000P 0.7um-2.1um NR9-1000P 0.7um-2.1um


NR7-1500P 1.1um-3.1um NR9-1500P 1.1um-3.1um
NR7-3000P 2.1um-6.3um NR9-3000P 2.1um-6.3um
NR7-6000P 5.0um-12.2um NR9-6000P 5.0um-12.2um
NR5-8000 5.8um-100.0um NR9-8000P 6.0μm-100um
耐溫性= 150°C 在低于120°C的處理溫 耐溫性= 100°C,。
度下可在25°C剝離NR5和NR7系列抗蝕劑 NR9系列抗蝕劑具有增強的附著力
在25°C時易于剝離,。
Futurrex NR5-8000,4.5:1 AR


抗蝕劑分辨率的示例
膜厚度:54µm
掩模尺寸:12µm線/間隔
曝光劑量:1100 mJ / cm 2,。
焦點偏移:-15µm,。
曝光工具:Ultratech步進土星
模型,i-line
另有:NR9G g和h線曝光用粘度增強 具有高粘附性適用于電鍍及濕法蝕刻
NR71G g和h線曝光用于干法蝕刻中掩模應(yīng)用并能作為隔層

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