化學(xué)氣相沉積MOCVD
- 公司名稱 研啟科學(xué)儀器(東莞)有限公司
- 品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/10/22 15:40:09
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純水機(jī),,離心機(jī),,旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀,光譜儀,,質(zhì)譜儀,,頻譜儀,示波器,,掃描電子顯微鏡,,電化學(xué)工作站,,流式細(xì)胞儀,,手套箱,,磁控濺射
v MOCVD設(shè)備是通過(guò)將反應(yīng)物質(zhì)以有機(jī)金屬化合物氣體分子的形式,經(jīng)載帶氣體送到反應(yīng)室,,進(jìn)行熱分解反應(yīng)而生長(zhǎng)出薄膜材料
v 應(yīng)用方向:Ga2O3,GaN, InP, GaAs, InSb, GaInNAs, II-VI等等
v 從研發(fā)到大規(guī)模生產(chǎn)
v 襯底尺寸:3x2 inch,、1x4 inch、1x3 inch,、1x2 inch
通過(guò)載波交換實(shí)現(xiàn):6 x 2 inch,、3 x 3 inch、1 x 6 inch
v Ga2O3薄膜生長(zhǎng)速率:>3um/h
v Ga2O3薄膜表面粗糙度:5umx5um范圍由AFM在Ga2O3襯底上測(cè)量 ≤1.0 nm
v 加熱系統(tǒng):采用鎢絲加熱,,三溫區(qū)控制,,溫度至1400℃
v 反應(yīng)腔室內(nèi)托盤(pán)與噴淋頭間距可調(diào)(范圍覆蓋5 mm至25 mm)
v 工藝過(guò)程中,,具有實(shí)時(shí)晶圓表面溫度和晶圓翹曲度監(jiān)測(cè)功能
v 搭載溫度監(jiān)測(cè)系統(tǒng),可實(shí)時(shí)掃描晶圓溫度mapping圖