一、產品介紹：

CIF推出全新一代實驗室型等離子體清洗設備,，傳統等離子體清洗設備設計理念,，可中試生產、模擬生產條件,，幾乎具備等離子體清洗設備所有的功能,。采用頂置真空倉，上開蓋下壓式鉸鏈開關方式,，上置式360度自由取放樣品托盤設計,，具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積，使用成本低,，性價比高,，處理快速高效，特別適合于大學,，科研院所和光電企業(yè)實驗室小批量中試生產。               

二,、產品特點

u 7寸彩色觸摸屏互動操作界面,，圖形化用戶操作界面顯示，自動監(jiān)測工藝參數狀態(tài),，20個配方程序,，可存儲、輸出、追溯工藝數據,，機器運行,、停止提示。

u PLC工控機控制整個清洗過程,，手動,、自動兩種工作模式。

u 石英真空倉,，真空管路系統采用316不銹鋼材質,，耐腐蝕無污染。

u 采用質量流量計實現對氣體輸入精準控制,，改變傳統浮子流量計控制氣體流量不準確問題,。

u HEPA高效過濾，氣體返填吹掃,，防止二次污染,。

u 60度傾角操作界面設計，符合人體功能學,，操作方便,，界面友好。

u 頂置真空倉,，上開蓋設計,，下壓式鉸鏈開關方式，開關蓋方便,。

u 采用花灑式多孔進氣方式,，改變傳統等離子清洗機單孔進氣不均勻問題。

u 上置式360度自由水平取放樣品托盤設計,，符合人體功能學,，操作更方便。

u 有效清洗面積大,，可清洗直徑8寸硅片,。

u 可處理不同幾何形狀、表面不同粗糙程度的金屬,、陶瓷,、玻璃、硅片,、塑料等樣品,，進行清洗和改性。

u 安全保護,，倉門打開,，自動關閉電源,。

三、技術參數