PISC系列等離子體增強(qiáng)純離子鍍膜設(shè)備

一,、設(shè)備功能簡(jiǎn)介

1、純離子鍍膜源,，采用高效電磁過濾系統(tǒng),，有效祛除顆粒，獲得更高純度的離子束流,，幫助提升涂層基礎(chǔ)硬度及結(jié)合力,；

2、高能離子束清洗源,，采用特殊設(shè)計(jì)的放電結(jié)構(gòu),，有效兼容了等離子清洗活化、輔助電離,、獨(dú)立沉積等功能;

3,、磁控濺射源，采用創(chuàng)新的磁場(chǎng)設(shè)計(jì),，有效提升靶材利用率30%以上;

4,、磁約束氣相沉積源，可靠且易于維護(hù)的結(jié)構(gòu),，可以實(shí)現(xiàn)快速而又細(xì)膩的涂層沉積,。

二、主要特點(diǎn)及技術(shù)優(yōu)勢(shì)

1,、等離子體增強(qiáng)純離子鍍膜設(shè)備可實(shí)現(xiàn)TAC-DLC的組合,，比單純CVD的結(jié)合力大幅度提升,，同時(shí)降低了PVD的顆粒度，縮短工藝時(shí)間;

2,、可實(shí)現(xiàn)多種工藝C膜沉積,，純離子鍍TAC，磁約束放電DLC,，陽極層離子源鍍DLC等;

3,、設(shè)有電磁掃描裝置和軟件，可定點(diǎn)定時(shí)控制等離子體的束流方向,，極大改善了鍍膜均勻性問題,，整爐膜層均勻性控制±5%以下;

4、優(yōu)化的磁場(chǎng)設(shè)計(jì)及冷卻設(shè)計(jì),，維護(hù)方便,，設(shè)備穩(wěn)定性好;

5、友好的人機(jī)界面,，實(shí)時(shí)記錄工藝數(shù)據(jù),，利于質(zhì)量管控、疑難分析,、開發(fā)新工藝等;

6,、本項(xiàng)目為交鑰匙設(shè)備，純?cè)垂咎峁┱捉鉀Q方案,，包括穩(wěn)定成熟鍍膜配方,。

三、設(shè)備參數(shù)

四,、膜層系列

典型涂層類型:

(1)Me-TAC,，金屬TAC復(fù)合涂層，應(yīng)用廣泛,；

(2)Me-DLC,，金屬DLC復(fù)合涂層，應(yīng)用廣泛,；

(3)Me-TAC-DLC,，TAC-DLC復(fù)合涂層，獲得TAC更高基礎(chǔ)硬度與結(jié)合力的同時(shí),，兼有DLC的沉積速率及細(xì)膩外觀,。

五、應(yīng)用領(lǐng)域

1,、高校及科研院所,；

2、特殊功能零部件,；

3,、工業(yè)領(lǐng)域：切削工具,、注塑模具、紡織零配件等,。

注明：以上數(shù)據(jù)來源于安徽純?cè)村兡た萍加邢薰?材料實(shí)驗(yàn)室-檢測(cè)結(jié)果