貴金屬薄膜專用鍍膜設(shè)備?

一,、設(shè)備簡介：

    貴金屬薄膜專用鍍膜設(shè)備采用雙腔室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),，工藝腔+裝/卸載腔，是工藝可靠性與制程效率的良好融合,。設(shè)備配備一套高能離子?xùn)|清洗源(lonbeam Cleaning Source),，多套磁控濺射源(Magnetron Sputtering Source)，配合可靠的伺服電磁推進(jìn)系統(tǒng),，設(shè)備模塊化程度高,、穩(wěn)定性好操作簡單且維護(hù)方便。

二,、設(shè)備參數(shù)：?

三,、設(shè)備主要特點(diǎn)和技術(shù)優(yōu)勢：

1、 模塊化通用接口,，直接兼容不同形式陰極靶材,，允許直流脈沖、中頻,、射頻工作模式,、兼容性強(qiáng)；

2,、 特殊設(shè)計(jì)的磁場及工藝氣路,，有效提升靶材利用率以及長期工藝穩(wěn)定性;
3、 雙腔室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),，既保障了工藝過程的穩(wěn)定性與一致性,，又極大縮短了鍍膜前處理時(shí)間,，提高生產(chǎn)效率；

4,、自主設(shè)計(jì)的全自動(dòng)智能化工藝操作系統(tǒng),，提供全面、便捷的工藝配方編輯及調(diào)用能力,，配備實(shí)時(shí)工藝參數(shù)監(jiān)控系統(tǒng),，允許在線遠(yuǎn)程控制。

四,、膜層系列：

五,、主要應(yīng)用：

· 可鍍 Au、Ag,、lr,、Re、Pt,、Ta,、Ti、Cu,、Cr,、Ni等金屬及其化合物;
· 可用于電子元器件、太陽能電池,、光學(xué)模具等各個(gè)領(lǐng)域,。

注明：以上數(shù)據(jù)來源于安徽純源鍍膜科技有限公司-材料實(shí)驗(yàn)室