光刻機,，亦稱為掩膜對準(zhǔn)曝光機,，是半導(dǎo)體芯片制造過程中至關(guān)重要的設(shè)備，主要負(fù)責(zé)將精心設(shè)計的集成電路圖案精確地轉(zhuǎn)移到硅晶圓上,，從而制造出微小,、精確且高效的集成電路。

光刻機的分類主要依據(jù)其曝光方式,，可分為接觸式,、接近式和直寫式三大類。直寫式光刻機進一步可以根據(jù)是否使用掩膜版分為有掩膜和無掩膜兩種類型,。無掩膜光刻機,，顧名思義，無需傳統(tǒng)掩膜版即可進行曝光，它直接在晶圓上繪制圖案,，這不僅提高了生產(chǎn)速度,，降低了成本，而且除了傳統(tǒng)的二維光刻,，還能實現(xiàn)2.5維度的灰度光刻,。無掩膜光刻機的靈活性高、無需掩膜版的特點,，使其在科學(xué)研究,、定制化生產(chǎn)、快速原型制造,、電子器件,、生物醫(yī)藥、光學(xué)元件,、微機械等多個領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用,。

托托科技推出的科研版無掩膜光刻機-Academic（ACA系列），托托科技科研版6英寸光刻面積無掩膜光刻機ACA Master,，以其高靈活性,、高精度和無掩膜的優(yōu)勢，成為科學(xué)研究領(lǐng)域的理想選擇,。

ACA系列無掩膜紫外光刻機采用空間光調(diào)制技術(shù),，實現(xiàn)了數(shù)字化的掩膜光刻，其靈活性是科研工作的一大亮點,。設(shè)備配備了長壽命,、高功率的紫外光源，確保了設(shè)備的穩(wěn)定性和操作的簡便性,。此外,，其原位光繪和交互式套刻指引功能，大大簡化了光刻和套刻過程,，提高了操作的精準(zhǔn)度,。ACA系列光刻機為科研人員提供了強大的工具，助力科學(xué)研究和技術(shù)創(chuàng)新的進步,。

托托科技科研版6英寸光刻面積無掩膜光刻機ACA Master亮點：

- 特征尺寸可達0.4μm,，確保了高精度的圖案繪制。

- 支持6英寸的光刻面積,，滿足多種尺寸的晶圓加工需求,。

- 具備掃描光刻與步進光刻的切換功能，適應(yīng)不同的光刻工藝需求,。

- 無需掩膜版,，實現(xiàn)了更靈活、更高效的光刻作業(yè)。