光刻機(jī)，亦稱為掩膜對準(zhǔn)曝光機(jī),，是半導(dǎo)體芯片制造過程中至關(guān)重要的設(shè)備,，主要負(fù)責(zé)將精心設(shè)計(jì)的集成電路圖案精確地轉(zhuǎn)移到硅晶圓上，從而制造出微小,、精確且高效的集成電路,。

光刻機(jī)的分類主要依據(jù)其曝光方式，可分為接觸式、接近式和直寫式三大類,。直寫式光刻機(jī)進(jìn)一步可以根據(jù)是否使用掩膜版分為有掩膜和無掩膜兩種類型,。無掩膜光刻機(jī)，顧名思義,，無需傳統(tǒng)掩膜版即可進(jìn)行曝光,，它直接在晶圓上繪制圖案，這不僅提高了生產(chǎn)速度,，降低了成本,，而且除了傳統(tǒng)的二維光刻，還能實(shí)現(xiàn)2.5維度的灰度光刻,。無掩膜光刻機(jī)的靈活性高,、無需掩膜版的特點(diǎn)，使其在科學(xué)研究,、定制化生產(chǎn),、快速原型制造、電子器件,、生物醫(yī)藥,、光學(xué)元件、微機(jī)械等多個(gè)領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用,。

托托科技推出的科研版無掩膜光刻機(jī)-Academic（ACA系列）,，托托科技科研版6英寸光刻面積無掩膜光刻機(jī)ACA Master，以其高靈活性,、高精度和無掩膜的優(yōu)勢,，成為科學(xué)研究領(lǐng)域的理想選擇。

ACA系列無掩膜紫外光刻機(jī)采用空間光調(diào)制技術(shù),，實(shí)現(xiàn)了數(shù)字化的掩膜光刻,，其靈活性是科研工作的一大亮點(diǎn)。設(shè)備配備了長壽命,、高功率的紫外光源,，確保了設(shè)備的穩(wěn)定性和操作的簡便性。此外,，其原位光繪和交互式套刻指引功能,，大大簡化了光刻和套刻過程，提高了操作的精準(zhǔn)度,。ACA系列光刻機(jī)為科研人員提供了強(qiáng)大的工具,，助力科學(xué)研究和技術(shù)創(chuàng)新的進(jìn)步。

托托科技科研版6英寸光刻面積無掩膜光刻機(jī)ACA Master亮點(diǎn)：

- 特征尺寸可達(dá)0.4μm,，確保了高精度的圖案繪制,。

- 支持6英寸的光刻面積,，滿足多種尺寸的晶圓加工需求。

- 具備掃描光刻與步進(jìn)光刻的切換功能,，適應(yīng)不同的光刻工藝需求,。

- 無需掩膜版，實(shí)現(xiàn)了更靈活,、更高效的光刻作業(yè),。