根據(jù)光刻機的曝光方式，主要可以分為接觸式光刻機,、接近式光刻機和直寫式光刻機,，其中直寫式光刻機又可以依據(jù)其是否需要使用掩膜版細(xì)分為有掩膜和無掩膜兩種。無掩膜光刻機是一種不需要使用傳統(tǒng)掩膜版的光刻機,，它通過直接對晶圓進(jìn)行曝光,，實現(xiàn)圖案的轉(zhuǎn)移,，能夠更快速地制造特定產(chǎn)品、降低成本,，除了能夠滿足傳統(tǒng)的2D光刻需求外,，還能實現(xiàn)2.5D光刻（即灰度光刻）。無掩膜光刻機不需要掩膜版,、高度靈活的優(yōu)點,，使其被廣泛應(yīng)用于科學(xué)研究、定制化生產(chǎn),、快速原型制造,、電子器件、生物醫(yī)藥,、光學(xué)元件,、微機械等領(lǐng)域。

托托科技科研版無掩膜光刻機-Academic

高靈活性,、高精度,、無掩膜的優(yōu)勢，非常適用于科學(xué)研究,。

ACA系列是科研版的無掩膜版紫外光刻機,，其基于空間光調(diào)制技術(shù)，實現(xiàn)了數(shù)字掩膜光刻,，靈活性使其成為科學(xué)研究選擇,。設(shè)備搭載長壽命、高功率的紫外光源,，設(shè)備穩(wěn)定,，上手簡單。其原位光繪和交互式套刻指引功能,，讓光刻和套刻更加容易和精準(zhǔn),。ACA系列設(shè)備為科研工作提供了強大的支持，助力科學(xué)研究領(lǐng)域的發(fā)展和創(chuàng)新,。

托托科技科研版無掩膜光刻機-ACA無掩膜光刻機亮點：

特征尺寸0.8μm

6英寸光刻面積

高精度步進(jìn)光刻

無掩膜光刻機