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PLD-T VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器

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?在國(guó)內(nèi)我們與多家設(shè)計(jì)院、科研院所及集成商建立了良好的項(xiàng)目合作關(guān)系,產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于冶金,、汽車(chē)制造,、煙草制造、液壓,、制藥,、食品飲料、電力,、船舶制造,、印刷包裝、石油化工,、機(jī)床,、環(huán)保監(jiān)測(cè)、鐵路機(jī)車(chē),、機(jī)械制造,、紡織等行業(yè)。


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應(yīng)用領(lǐng)域 綜合

VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器

英國(guó)VacTechniche,真空鍍膜系統(tǒng),濺射鍍膜機(jī),PLD-T 脈沖激光器,,沉積和熱蒸發(fā)器

PLD-T 脈沖激光器沉積和熱蒸發(fā)器

SEM/TEM 樣品制備 Vac Techniche

多功能脈沖激光沉積和熱蒸發(fā)器系統(tǒng) – PLD-T 是一種高真空薄膜沉積系統(tǒng),可通過(guò)脈沖激光沉積和熱蒸發(fā)技術(shù)沉積不同的材料,。它可以將復(fù)雜材料和晶體結(jié)構(gòu)沉積到基板上,,只需很少的設(shè)置,。
脈沖激光沉積技術(shù)可實(shí)現(xiàn)高效的非熱燒蝕,,并保持靶材的化學(xué)計(jì)量。通過(guò)應(yīng)用這種方法,,它可以沉積氮化物,、氧化物、超晶格,、聚合物和復(fù)合材料等材料,。

VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器

VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器

PLD-T
熱蒸發(fā)源

(舟/籃/盤(pán)管)

脈沖激光沉積系統(tǒng)可配備三個(gè)獨(dú)立的熱阻熱蒸發(fā)源。蒸發(fā)源支架的良好設(shè)計(jì)不會(huì)使污染物從源材料轉(zhuǎn)移到其他材料,。源架的長(zhǎng)度可在 5~10 cm 范圍內(nèi)調(diào)節(jié),,滿足客戶(hù)要求。

DCT-Desktop 碳素涂布機(jī)

  • 轉(zhuǎn)速可調(diào)的目標(biāo)機(jī)械手
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  • 配備電子快門(mén)
  • 配備機(jī)動(dòng)船選擇
  • 500 °C 基板加熱器
  • 兩年保修

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