1 產(chǎn)品概述：

      快速退火爐,，又稱RTP（Rapid Thermal Processing）快速熱處理爐,，是一種用于快速熱處理、熱氧化處理,、高溫退火等工藝的設(shè)備,。它利用鹵素紅外燈等高效熱源，通過極快的升溫速率（可達(dá)150攝氏度/秒）和精確的溫控系統(tǒng),，將晶圓或材料快速加熱到所需溫度（最高可達(dá)1200攝氏度）,，并在短時(shí)間內(nèi)完成退火過程，從而消除材料內(nèi)部缺陷,，改善產(chǎn)品性能,。快速退火爐廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、LED,、MEMS,、化合物半導(dǎo)體和功率器件等多種芯片產(chǎn)品的生產(chǎn)中，是現(xiàn)代微電子制造領(lǐng)域重要設(shè)備,。

2 設(shè)備用途：

1,、快速熱處理（RTP）：用于對(duì)晶圓或材料進(jìn)行快速加熱和冷卻處理，以改善晶體結(jié)構(gòu)和光電性能,。

2、快速退火（RTA）：通過快速升溫和降溫過程,，消除材料內(nèi)部的應(yīng)力,、缺陷和雜質(zhì)，提高材料的性能,。

3 ,、熱氧化處理（RTO）：在特定氣氛下對(duì)材料進(jìn)行加熱處理，形成所需的氧化物層,。

4,、離子注入/接觸退火：在離子注入后對(duì)材料進(jìn)行退火處理，以激活注入的離子并改善材料的電學(xué)性能,。

5,、 金屬合金化：如SiAu,、SiAl、SiMo等合金的制備過程中,，通過快速退火促進(jìn)合金化反應(yīng),。

6、 化合物合金制備：如砷化鎵,、氮化物等化合物的合金制備過程中,，快速退火爐也發(fā)揮著重要作用生。同時(shí),，加熱還可以促進(jìn)化學(xué)反應(yīng)的進(jìn)行,，提高處理效果。

3. 設(shè)備特點(diǎn)

  1 高效加熱與快速升降溫：采用鹵素紅外燈等高效熱源,，升溫速率快,，最高可達(dá)150攝氏度/秒；降溫速率也快,，如從1000攝氏度降到300攝氏度僅需幾分鐘,。

  2 高精度溫控系統(tǒng)：采用先進(jìn)的微電腦控制系統(tǒng)和PID閉環(huán)控制溫度，控溫精度可達(dá)±0.5攝氏度,，溫控均勻性≤0.5%設(shè)定溫度,。

  3 多功能性與靈活性：可根據(jù)用戶工藝需求配置真空腔體、多路氣體等,，滿足不同工藝條件的需求,。
       4 低污染與環(huán)保：試樣反應(yīng)區(qū)處在一個(gè)密閉的石英腔體內(nèi)，大大降低了間接污染試樣的可能性,；同時(shí),，設(shè)備在設(shè)計(jì)和制造過程中注重環(huán)保理念，減少了對(duì)環(huán)境的污染,。

  5 操作簡(jiǎn)便與自動(dòng)化：配備可視化觸摸屏和智能控制系統(tǒng),，設(shè)定數(shù)據(jù)和操作都是圖文界面，操作方便,；同時(shí),，可實(shí)現(xiàn)單臺(tái)或多臺(tái)電爐的遠(yuǎn)程控制、實(shí)時(shí)追蹤,、歷史記錄,、輸出報(bào)表等功能。

4  設(shè)備參數(shù)：

• 適用于大 150 mm （6“） 或 156 mm x 156 mm 基板尺寸的單晶圓

• （可選：100 mm 適配器）

• 由石英玻璃制成的工藝室（室高度：40      mm）

• 帶集成氣體入口和出口

• 包括一條帶氮?dú)赓|(zhì)量流量控制器的過程氣體管路（5 nlm = 標(biāo)準(zhǔn)升/分鐘）

• 由 24 個(gè)紅外燈 （21 kW） 加熱

• 頂部和底部加熱

• 斜坡下降速率：T=1000 °C?400 °C      200 K/min,。
       斜坡下降速率：T= 400 °C?100 °C      30 K/min,。

• 外部泵系統(tǒng)具有真空功能（高 10E-3      hPa，高 10E-6 hPa：參見      RTP-150-HV）

• SPS 過程控制器,，帶 50 個(gè)程序,，每個(gè)程序多 50 個(gè)步驟（以太網(wǎng)接口）,，SIMATIC

• 7 英寸觸摸屏，便于編程和過程控制

• 高氣溫 1000 °C

• 通過熱電偶進(jìn)行溫度控制

• 需要水冷

• 電氣連接類型：32 A CEE 插頭（3 x 230 V,，3 相,，N，PE,，21 kW）

• 烤箱尺寸：504 mm x 504      mm （700） x 570 mm（寬 x 深 x 高）

• 重量： 55 kg