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Compact 21 MBE分子束外延系統(tǒng)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
產(chǎn)品標(biāo)簽

分子束外延薄膜沉積緊湊型MBE

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè),。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備,、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測(cè)試設(shè)備,、半導(dǎo)體光電測(cè)試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù),、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù),。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng),,軟件著作權(quán) 14 項(xiàng),,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè),、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè),。










冷熱臺(tái),快速退火爐,,光刻機(jī),納米壓印,、磁控濺射,,電子束蒸發(fā)

1 產(chǎn)品概述:

   Riber分子束外延(MBE)系統(tǒng)是一款在半導(dǎo)體及光電子領(lǐng)域廣泛應(yīng)用的先進(jìn)設(shè)備,以其高精度,、高純度和低溫生長(zhǎng)的特點(diǎn)而著稱,。該系統(tǒng)能夠在超高真空環(huán)境下,通過精確控制分子束的流量和速度,,實(shí)現(xiàn)原子層級(jí)的材料沉積,,從而生長(zhǎng)出具有優(yōu)異性能的薄膜材料。Riber公司其MBE系統(tǒng)涵蓋了多種型號(hào),,如MBE 6000-Multi4英寸中試生產(chǎn)系統(tǒng)等,,以滿足不同規(guī)模和需求的生產(chǎn)場(chǎng)景。

2 設(shè)備用途:

  半導(dǎo)體制造:Riber MBE系統(tǒng)可用于生長(zhǎng)高質(zhì)量的半導(dǎo)體材料,,如GaAs,、InPGaN等,,這些材料是制造晶體管,、二極管、激光器等微電子器件的關(guān)鍵,。通過MBE技術(shù),,可以精確控制材料的組分、厚度和界面結(jié)構(gòu),,從而優(yōu)化器件的性能,。

  光電子器件:在光電子領(lǐng)域,Riber MBE系統(tǒng)可用于制造太陽(yáng)能電池,、LED,、光電探測(cè)器等器件。利用MBE技術(shù)生長(zhǎng)的量子點(diǎn)等結(jié)構(gòu),,可以顯著提升這些器件的光電轉(zhuǎn)換效率和性能穩(wěn)定性,。

  量子點(diǎn)研究:MBE系統(tǒng)還廣泛應(yīng)用于量子點(diǎn)的研究和生產(chǎn)中。量子點(diǎn)是一種具有光電特性的納米材料,,通過MBE技術(shù)可以精確控制其尺寸,、形狀和組分,,從而制備出性能優(yōu)異的量子點(diǎn)材料。

3 設(shè)備特點(diǎn)

  高精度沉積:Riber MBE系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)原子層級(jí)的材料沉積控制,,確保薄膜的高質(zhì)量和均勻性,。這種高精度沉積能力使得MBE系統(tǒng)在制造高性能微電子和光電子器件方面具有優(yōu)勢(shì)。

  高真空環(huán)境:系統(tǒng)配備先進(jìn)的真空系統(tǒng),,提供超高真空環(huán)境,,有效減少雜質(zhì)和污染,保證晶體沉積的純度和質(zhì)量,。

  低溫生長(zhǎng):MBE技術(shù)采用低溫生長(zhǎng)方式,,有效避免界面原子的互擴(kuò)散和缺陷的形成,從而生長(zhǎng)出高質(zhì)量的薄膜材料,。

    多源端口設(shè)計(jì):部分型號(hào)如4英寸中試生產(chǎn)系統(tǒng)可配備多個(gè)源端口,,以滿足不同材料的沉積需求,有助于生長(zhǎng)復(fù)雜的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),。




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