1 產(chǎn)品概述:

      離子注入設(shè)備,，又稱為離子注入機(jī),，是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵設(shè)備之一。它通過將可控?cái)?shù)量的離子（如硼、磷,、砷等）加速并注入到半導(dǎo)體材料（如硅片）的特定區(qū)域,，以改變其電學(xué)性能，實(shí)現(xiàn)摻雜的目的,。離子注入技術(shù)具有精確控制摻雜深度,、濃度和橫向分布的能力，是現(xiàn)代集成電路制造中的一環(huán),。

離子注入設(shè)備主要由離子源,、離子引出和質(zhì)量分析器、加速管,、掃描系統(tǒng)和工藝腔等部分組成,。離子源負(fù)責(zé)產(chǎn)生所需的離子，經(jīng)過質(zhì)量分析器篩選后,，由加速管加速至幾百千電子伏特的能量,，最后通過掃描系統(tǒng)均勻地注入到硅片表面。工藝腔則提供了一個(gè)真空環(huán)境,，確保離子注入過程的順利進(jìn)行,。

2 設(shè)備用途：

離子注入設(shè)備在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域具有廣泛的用途，主要包括以下幾個(gè)方面：

1. 集成電路制造：在制造集成電路的過程中,，離子注入技術(shù)用于形成晶體管的源極,、漏極和溝道等關(guān)鍵區(qū)域，以及實(shí)現(xiàn)電路的隔離和互聯(lián),。

2. 金屬材料表面改性：通過離子注入技術(shù),，可以在金屬材料表面形成一層具有特殊性能的改性層,，如提高耐磨性,、耐腐蝕性和硬度等。

3. 薄膜制備：離子注入技術(shù)還可以用于制備具有特定性能的薄膜材料,，如超導(dǎo)薄膜,、光學(xué)薄膜等。

3 設(shè)備特點(diǎn)

離子注入設(shè)備具有以下幾個(gè)顯著特點(diǎn)：

1. 精確控制：離子注入技術(shù)可以精確控制摻雜離子的種類,、數(shù)量,、深度和橫向分布，滿足集成電路制造中對(duì)摻雜精度要求,。

2. 低溫處理：與傳統(tǒng)的熱擴(kuò)散工藝相比,，離子注入技術(shù)可以在較低的溫度下進(jìn)行，避免了高溫處理對(duì)半導(dǎo)體材料性能的影響,。

3. 廣泛應(yīng)用：離子注入技術(shù)不僅應(yīng)用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,，還擴(kuò)展到金屬材料表面改性、薄膜制備等多個(gè)領(lǐng)域。

4 技術(shù)參數(shù)和特點(diǎn)：

 •基板尺寸：Max200mm枚葉式

可對(duì)應(yīng)薄片Wafer

•非質(zhì)量分離機(jī)的對(duì)比優(yōu)點(diǎn)

1)對(duì)應(yīng)低加速.高濃度的好產(chǎn)能離子注入設(shè)備

2)相比過去約一半的低價(jià)

3)相比過往設(shè)備占用面積為1/3的緊湊型設(shè)計(jì)