1. 產(chǎn)品概述

FLOURIS 201系列 8英寸立式爐，高精度溫度場控制技術(shù),，可實現(xiàn) 1200℃ 內(nèi)氧化退火工藝,。

2. 設(shè)備用途/原理

FLOURIS 201系列 8英寸立式爐，高精度溫度場控制技術(shù),，可實現(xiàn) 1200℃ 內(nèi)氧化退火工藝,，優(yōu)良的顆粒控制技術(shù),，優(yōu)良的膜厚均勻性控制技術(shù),，圖形化操作界面和群組管理系統(tǒng)。

3. 設(shè)備特點

晶圓尺寸 8 英寸,，適用材料 硅,、碳化硅,。適用工藝 高溫氧化、退火,、常壓合金,、Polyimide 固化。適用域 科研,、化合物半導(dǎo)體,、集成電路。百科：半導(dǎo)體立式爐?的原理主要涉及到半導(dǎo)體材料的熱處理過程,，這一過程在半導(dǎo)體制造中至關(guān)重要,。立式爐的設(shè)計允許對半導(dǎo)體材料進行精確的溫度控制和氣氛管理，從而促進材料的特定化學(xué)反應(yīng),，如外延生長等,。