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化工儀器網>產品展廳>半導體行業(yè)專用儀器>濕法工藝設備>濕法腐蝕/刻蝕設備>M+100-E 濕法腐蝕機

M+100-E 濕法腐蝕機

參考價2000000.00
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 西安愛姆加半導體有限公司
  • 品牌其他品牌
  • 型號M+100-E
  • 所在地西安市
  • 廠商性質生產廠家
  • 更新時間2024/3/8 11:21:02
  • 訪問次數(shù) 113
規(guī)格
2002000000.00元1 件可售

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經營范圍一般項目:半導體器件專用設備制造半導體器件專用設備銷售:電工


機械專用設備制造:電子元器件制造:電子專用設備制造:集成電路芯片及產品制造:半導體分立器件制造,,技術服務,技術開發(fā),技術咨詢,技術交流,、技術轉讓、技術推廣:電力電子元器件制造:機械零件,、零部件加工:實驗分析儀器制造;數(shù)控機床制造;配電開關控制設備制造;機械電氣設備制造;工業(yè)自動控制系統(tǒng)裝置制造;金屬加工機械制遭;電工儀器儀表銷售;機械電氣設備銷售;自然科學研究和試驗發(fā)展:實驗分析儀器銷售;智能控制系統(tǒng)集成;五金產品零售:儀器儀表制造1儀器儀表鑰售1金屬材料銷售;計算機軟硬件及輔助設備零售:高品質合成橡膠銷售;信息咨詢服務(不含許可類信息咨詢服務)專用設備制造(不含許可類專業(yè)設備制造),,電子產品銷售,札儀服務:生態(tài)環(huán)境監(jiān)測及檢測儀器僅表銷售;機械設備銷售;軟件開發(fā):信息技術咨詢服務;機根設備租賃:五金產品批發(fā):化工產品銷售(不含許可類化工產品),,橡膠制品鑰售;橡膠制品制造;專用設備修理,,電氣設備修理,,通用設備修理:翻澤服務;進出口代理,技術進出口,,貿易經紀(賒依法領經批準的項目外,,憑營業(yè)執(zhí)照依法自主開展經營活動)。


勻膠機,、顯影劑

主要用途:

  用于IC生產及元器件生產中晶片的濕法刻蝕,、清洗工藝。其作用是去除晶片表面的有機物,、顆粒,、金屬雜質、自然氧化層及石,、塑料等附件器皿的污染物,。廣泛用于拋光片、擴散前,、CMP后,、氧化前及光刻后等關鍵工藝的清洗

型號:M+-E150


主要用途:

  用于IC生產及元器件生產中晶片的濕法刻蝕、清洗工藝,。其作用是去除晶片表面的有機物,、顆粒、金屬雜質,、自然氧化層及石,、塑


主要用途:

  用于IC生產及元器件生產中晶片的濕法刻蝕、清洗工藝,。其作用是去除晶片表面的有機物,、顆粒、金屬雜質,、自然氧化層及石,、塑料等附件器皿的污染物。廣泛用于拋光片,、擴散前,、CMP后、氧化前及光刻后等關鍵工藝的清洗

型號:M+-E150


主要用途:

  用于IC生產及元器件生產中晶片的濕法刻蝕,、清洗工藝,。其作用是去除晶片表面的有機物、顆粒,、金屬雜質,、自然氧化層及石、塑


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