產(chǎn)品概述
MProbe Vis薄膜測厚儀大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測量,。比如:氧化物,,氮化物,,光刻膠,高分子聚合物,,半導(dǎo)體(硅,,單晶硅,多晶硅),,半導(dǎo)體化合物(AlGaAs, InGaAs,,CdTe, CIGS),硬涂層(碳化硅,,類金剛石炭),,聚合物涂層(聚對二甲苯,,聚甲基丙烯酸甲酯,,聚酰胺
大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被MProbe Vis測厚儀測量。比如:氧化物,,氮化物,,光刻膠,高分子聚合物,,半導(dǎo)體(硅,,單晶硅,多晶硅),,半導(dǎo)體化合物(AlGaAs, InGaAs,,CdTe, CIGS),硬涂層(碳化硅,,類金剛石炭),,聚合物涂層(聚對二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,,聚酰胺),。
測量范圍: 15 nm -50um
波長范圍: 400 nm -1100 nm
MProbe Vis薄膜測厚儀適用于實(shí)時(shí)在線測量,多層測量,,非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料),,新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等,。
測量指標(biāo):薄膜厚度,,光學(xué)常數(shù)
界面友好: 一鍵式測量和分析。
MProbe Vis薄膜測厚儀實(shí)用的工具:曲線擬合和靈敏度分析,,背景和變形校正,,連接層和材料,多樣品測量,,動態(tài)測量和產(chǎn)線批量處理,。
案例1,,300nm二氧化硅薄膜的測量:
硅晶圓反射率,測量時(shí)間10ms:
案例2,,測量500nm氮化鋁,,測量參數(shù):厚度和表面粗糙度