產(chǎn)品概述
當(dāng)一束光入射到薄膜表面時,,薄膜上表面和下表面的反射光會發(fā)生干涉,,干涉的發(fā)生與薄膜厚度及光學(xué)常數(shù)等有關(guān),反射光譜薄膜測厚儀就是基于此原理來測量薄膜厚度,。
反射光譜干涉法是一種非接觸式,、無損的、快速的光學(xué)薄膜厚度測量技術(shù),。
測量范圍: 1 nm - 1 mm
波長范圍: 200 nm -8000 nm
光斑尺寸:2mum -3 um
產(chǎn)品特點:
a. 高的測量精度:0.01nm或0.01
b. 準(zhǔn)確度:1nm或0.2
c. 穩(wěn)定性:0.02nm或0.02
d. 強大的軟件材料庫,,包含500多種材料的光學(xué)常數(shù)
e. 通過Modbus TCP或OPC協(xié)議,與其他設(shè)備聯(lián)用
適用于實時在線測量,,多層測量,,非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料),新材料可以很容易的添加,,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等
大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測量,。比如:氧化物,氮化物,,光刻膠,,高分子聚合物,,半導(dǎo)體(硅,單晶硅,,多晶硅),,半導(dǎo)體化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),,硬涂層(碳化硅,,類金剛石炭),聚合物涂層(聚對二甲苯,,聚甲基丙烯酸甲酯,,聚酰胺)
標(biāo)準(zhǔn)配置中包含:
1. 主機(光譜儀,光源,,電線)
2. 反射光纖
3. 樣品臺及光纖適配器
4. TFCompanion軟件
5. 校準(zhǔn)套裝
6. 測試樣品,,200nm晶圓
多種型號可選,每個型號對應(yīng)不同的測量范圍:
測量n和k值,,其厚度范圍需在25納米和5微米之間
廣泛的應(yīng)用于各種工業(yè)生產(chǎn)及工藝監(jiān)控中:
半導(dǎo)體晶圓,,薄膜太陽能電池,液晶平板,,觸摸屛,,光學(xué)鍍膜,聚合物薄膜等
半導(dǎo)體制造:· 光刻膠 · 氧化物 · 氮化物
光學(xué)鍍膜:· 硬涂層 · 抗反射涂層 · 濾波片
生物醫(yī)學(xué):· 聚對二甲苯 · 生物膜厚度 · 硝化纖維