1 產(chǎn)品介紹

頂旭桌面光刻機/曝光機/,，專為微米級圖案制作而設(shè)計,，旨在保障圖形轉(zhuǎn)移精度。設(shè)備采用紫外LED冷光源,，結(jié)合雙非球面石英透鏡,，可生成半角＜2°的平行光，相較傳統(tǒng)接觸式曝光機,，其緊湊的體積將移形換影置于桌面之上,，為操作提供了便利與精準(zhǔn)。

該光刻機廣泛適用于微流控芯片,、MEMS器件,、光電子器件以及聲表面波器件等制備領(lǐng)域。其性能尤其適合高校,、科研院所以及企業(yè)展開微細加工工藝研究,。緊隨現(xiàn)代技術(shù)的步伐，桌面光刻機/曝光機的問世為微納加工注入了新的活力,，助力客戶在項目目標(biāo)的實現(xiàn)過程中邁向更高精度,、更具創(chuàng)新性的階段。

2. 技術(shù)參數(shù)

2  曝光光源：紫外LED

2  光源波長：365nm;

2  曝光面積：4英寸,、6英寸可選,；

2  曝光方式：單面接觸式定時曝光；

2  曝光分辨率：2um,；

2  曝光強度：30~120mW/cm²可調(diào),；

2  曝光不均勻性：≤5%；

2  光源平行性：≤2°,；

2  光源壽命：≥20000h,；

2  電源輸入：AC220V±10V，50HZ

2  功率：250W

2  重量：約22kg

2  外形尺寸：382（長）*371（寬）*435（高）

2  工作環(huán)境：溫度0℃-40 ℃,，相對濕度＜80 %

3. 使用方法

接觸式曝光機操作簡單,，易于上手，具體操作如下：

一,、曝光前準(zhǔn)備工作

1,、硅片處理：確保待曝光硅片經(jīng)過勻膠處理，表面干凈平整,，沒有明顯的污漬或破損,。

2,、選擇光刻板：根據(jù)項目需要，選擇合適尺寸的光刻板,，本設(shè)備兼容4英寸,、5英寸或6英寸。

3,、設(shè)備檢查：仔細檢查設(shè)備,，確保所有部件處于正常工作狀態(tài)，確保操作環(huán)境良好,。

二,、曝光操作步驟

1、安裝硅片：將待曝光硅片平放在設(shè)備的載臺上,，確保位置準(zhǔn)確,。

 （硅片放置載硅片槽內(nèi)）

2、放置光刻板：將光刻板平放在硅片上方,，如果使用菲林掩膜,，需要在其上方放置透明玻璃以保持平穩(wěn)。

3,、設(shè)定曝光參數(shù)：使用控制面板設(shè)置曝光時間和強度，根據(jù)具體需求進行調(diào)整,。

4,、啟動曝光：確認(rèn)參數(shù)設(shè)定無誤后，點擊啟動按鈕,，設(shè)備將開始進行曝光,。

5、監(jiān)控曝光過程：在曝光過程中,，您可以通過設(shè)備界面監(jiān)控曝光進度,，確保一切順利進行。

6,、曝光完成：曝光結(jié)束后,，設(shè)備會發(fā)出提示，取出硅片和光刻板,。

4. 日常維護

1,、定期清理平行曝光機的載臺，防止它們因積塵或灰塵而影響加工,。

2,、保持曝光機的表面清潔，防止灰塵和雜質(zhì)進入設(shè)備內(nèi)部,。

5. 裝箱清單

1,、桌面微型紫外光刻機主機 1臺

2,、電源線 1根

3、高透4英寸玻璃 1片 （輔助菲林掩膜曝光使用）

4,、用戶操作說明書 1份

5,、合格證 1份

6、保修卡 1份