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FR-pRo:Thetametrisis膜厚測量儀

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司(Dymek Company Ltd ,下面簡稱岱美)成立于1989年,,是一間擁有多年經(jīng)驗(yàn)的高科技設(shè)備分銷商,,主要為數(shù)據(jù)存儲、半導(dǎo)體、光通訊,、高校及研發(fā)中心提供各類測量設(shè)備,、工序設(shè)備以及相應(yīng)的技術(shù)支持,并與一些重要的客戶建立了長期合作的關(guān)系,。自1989年創(chuàng)立至今,,岱美的產(chǎn)品以及各類服務(wù)、解決方案廣泛地運(yùn)用于中國香港,,中國大陸(上海,、東莞、北京),,中國臺灣,,泰國,菲律賓,,馬來西亞,,越南及新加坡等地區(qū)。


岱美在中國大陸地區(qū)主要銷售或提供技術(shù)支持的產(chǎn)品:

晶圓鍵合機(jī),、納米壓印設(shè)備,、紫外光刻機(jī)、涂膠顯影機(jī),、硅片清洗機(jī),、超薄晶圓處理設(shè)備、光學(xué)三維輪廓儀,、硅穿孔TSV量測,、非接觸式光學(xué)三坐標(biāo)測量儀、薄膜厚度檢測儀,、主動及被動式防震臺系統(tǒng),、應(yīng)力檢測儀、電容式位移傳感器,、定心儀等,。


岱美重要合作伙伴包括有:

Thetametrisis, EVG, FSM, Opto-Alignment, Herz, PLSINTEC, Film Sense, Reditech, Lazin, Delcom, Microsense, Shb, boffotto, RTEC, Kosaka, Nanotronics, MTInc, 4D, Daeil, Microphysics,

n&k Technology, First Nano, Schmitt, LESCO, Otsuka, STI, Kurashiki, Ryokosha, SURAGUS, Westbond...


如有需要,請聯(lián)系我們,,了解我們?nèi)绾伍_始與您之間的合作,,實(shí)現(xiàn)您的企業(yè)或者組織機(jī)構(gòu)長期發(fā)展的目標(biāo)。




膜厚儀,,輪廓儀,,EVG鍵合機(jī),EVG光刻機(jī),,HERZ隔震臺,,Microsense電容式位移傳感器

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),綜合

Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo概述:

FR-pRo膜厚儀: 按需搭建的薄膜特性表征工具,。

FR-pRo膜厚儀是一個模塊化和可擴(kuò)展平臺的光學(xué)測量設(shè)備,用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的涂層,。

FR-pRo膜厚儀是為客戶量身定制的,,并廣泛應(yīng)用于各種不同的應(yīng)用。

比如:

吸收率/透射率/反射率測量,,薄膜特性在溫度和環(huán)境控制下甚至在液體環(huán)境下的表征等等…

Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo應(yīng)用:

1,、大學(xué)&研究實(shí)驗(yàn)室

2、半導(dǎo)體行業(yè)

3,、高分子聚合物&阻抗表征

4,、電介質(zhì)特性表征

5、生物醫(yī)學(xué)

6,、硬涂層,,陽極氧化,金屬零件加工

7,、光學(xué)鍍膜

8,、非金屬薄膜等等…

FR-pRo膜厚儀可由用戶按需選擇裝配模塊,核 心部件包括光源,,光譜儀(適用于 200nm-2500nm 內(nèi)的任何光譜系統(tǒng))和控制單元,,電子通訊模塊。

此外,,還有各種各種配件,,比如:

1.用于測量吸收率/透射率和化學(xué)濃度的薄膜/試管架;

2.用于表征涂層特性的薄膜厚度工具,;

3.用于控制溫度或液體環(huán)境下測量的加熱裝置或液體試劑盒,;

4.漫反射和全反射積分球。

通過不同模塊組合,,蕞終的配置可以滿足任何終端用戶的需求,。

Specificatins 規(guī)格:

Model

UV/Vis

UV/NIR -EXT

UV/NIR-HR

D UV/NIR

VIS/NIR

D Vis/NIR

NIR

光譜范圍  (nm)

200 – 850

200 –1020

200-1100

200 – 1700

370 –1020

370 – 1700

900 – 1700

像素

3648

3648

3648

3648 & 512

3648

3648 & 512

512

厚度范圍

1nm – 80um

3nm – 80um

1nm – 120um

1nm – 250um

12nm – 100um

12nm – 250um

50nm – 250um

測量n*k 蕞小范圍

50nm

50nm

50nm

50nm

100nm

100nm

500nm

準(zhǔn)確度*,**

1nm or 0.2%

1nm or 0.2%

1nm or 0.2%

1nm or 0.2%

1nm or 0.2%

2nm or 0.2%

3nm or 0.4%

精度*,**

0.02nm

0.02nm

0.02nm

0.02nm

0.02nm

0.02nm

0.1nm

穩(wěn)定性*,**

0.05nm

0.05nm

0.05nm

0.05nm

0.05nm

0.05nm

0.15nm

光源

氘燈 & 鎢鹵素?zé)?內(nèi)置)

鎢鹵素?zé)?內(nèi)置)

光斑 (直徑)

   

350um (更小光斑可根據(jù)要求選配)

   

材料數(shù)據(jù)庫

     

> 600 種不同材料

     


Accessries 配件:

電腦

19 英寸屏幕的筆記本電腦/觸摸屏電腦

聚焦模塊

光學(xué)聚焦模塊安裝在反射探頭上,光斑尺寸<100um

薄膜/比色皿容器

在標(biāo)準(zhǔn)器皿中對薄膜或液體的透射率測量

接觸式探頭

用于涂層厚度測量和光學(xué)測量的配件,,適用于彎曲表面和曲面樣品

顯微鏡

用于高橫向分辨率的反射率及厚度顯微測量

Scanner  (motorized)

帶有圓晶卡盤的Polar(R-Θ)或 Cartesian(X-Y)自動化樣品臺可選,,Polar(R-Θ)樣品臺支持反射率測量,Cartesian(X-Y)樣品臺支持反射率和透射率測量

積分球

用于表征涂層和表面的鏡面反射和漫反射

手動 X-Y 樣品臺

測量面積為 100mmx100mm 或 200mmx200mm 的x - y 手動平臺

加熱模塊

嵌入FR-tool 中,,范圍由室溫~200oC,,通過FR-Monitor 運(yùn)行可編程溫控器(0.1 oC 精度).

液體模塊

聚四氟乙烯容器,,用于通過石英光學(xué)窗口測量在液體中的樣品,。樣品夾具,

用于將樣品插入可處理 30mmx30mm 樣品的液體中

流通池

液體中吸光率,、微量熒光測量


工作原理:

白光反射光譜(WLRS)是測量垂直于樣品表面的某一波段的入射光,,在經(jīng)多層或單層薄膜反射后,,經(jīng)界面干涉產(chǎn)生的反射光譜可確定單層或多層薄膜(透明,半透明或全反射襯底)的厚度及 N*K 光學(xué)常數(shù),。

* 規(guī)格如有更改,,恕不另行通知;厚度測量范圍即代 表光譜范圍,,是基于在高反射襯底折射率為 1.5 的單層膜測量厚度,。

 

 



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