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FPD-PECVD 電漿輔助化學(xué)氣相沉積

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 更新時間 2024/7/10 13:42:51
  • 訪問次數(shù) 614

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北京瑞科中儀科技有限公司專注半導(dǎo)體材料研究分析設(shè)備的研發(fā)和應(yīng)用,。專業(yè)的團隊,,專精的服務(wù),提供理想的解決方案,。

我們長期專注于半導(dǎo)體材料研究與分析設(shè)備的經(jīng)銷和代理,,為高校、企業(yè)科研工作者提供專業(yè)的分析解決方案,。以專業(yè)技能為導(dǎo)向,,用科技來解決用戶在科研中遇到的難題。專業(yè)的技術(shù)工程師和科研工作者進行現(xiàn)場演示和技術(shù)交流,打消顧慮,,彼此協(xié)作,,為我國的科研領(lǐng)域譜寫新篇章。

北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應(yīng)多種分子材料的研究分析設(shè)備,,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡,、感應(yīng)耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機,、等離子清洗機,、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學(xué)顯微鏡以及實驗室設(shè)備儀器。

客戶至上的服務(wù)理念,,以人為本的企業(yè)文化,,我們始終為用戶提供專業(yè)的服務(wù)!

合作丨共贏,,選擇我們,,選擇未來!

 

半導(dǎo)體材料分析,材料刻蝕

應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,化工,電子/電池

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FPD-PECVD 電漿輔助化學(xué)氣相沉積

隨著LCD面板和製造所需玻璃的尺寸的增加,,其製造設(shè)備也變得更大,,需要越來越大的設(shè)備投資。SYSKEY針對中小尺寸的需求開發(fā)串集的PECVD 設(shè)備,,提供非晶矽(a-Si),,氧化矽(SiOx),氮氧化矽(SiON),,氮化矽(SiNx)和多層膜沉積,。

FPD-PECVD 電漿輔助化學(xué)氣相沉積

應(yīng)用領(lǐng)域
  • 非晶矽前驅(qū)物(a-Si)。

  • 氮化矽 (SiNx),。

  • 氧化矽,,矽烷基(SiOx)。

  • 氧化矽,,TEOS (SiOx),。


配置和優(yōu)點選件
  • 客製化基板尺寸最大為550 x 650 mm2(玻璃)。

  • 優(yōu)異的薄膜均勻度小於±3%,。

  • 每個製程腔內(nèi)最多可加裝7組氣體管線,。

  • 遠程電漿進行腔體清潔。

  • 穩(wěn)定的溫度控制,,可將基板加熱到380°C,。

  • Cassette傳送站。

  • TEOS沉積製程,。

  • OES,、RGA或製程監(jiān)控的額外備用端口,。



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