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低真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào)
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間 2024/7/10 13:38:19
  • 訪問(wèn)次數(shù) 928

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北京瑞科中儀科技有限公司專注半導(dǎo)體材料研究分析設(shè)備的研發(fā)和應(yīng)用。專業(yè)的團(tuán)隊(duì),,專精的服務(wù),,提供理想的解決方案。

我們長(zhǎng)期專注于半導(dǎo)體材料研究與分析設(shè)備的經(jīng)銷和代理,,為高校,、企業(yè)科研工作者提供專業(yè)的分析解決方案。以專業(yè)技能為導(dǎo)向,,用科技來(lái)解決用戶在科研中遇到的難題,。專業(yè)的技術(shù)工程師和科研工作者進(jìn)行現(xiàn)場(chǎng)演示和技術(shù)交流,打消顧慮,,彼此協(xié)作,,為我國(guó)的科研領(lǐng)域譜寫新篇章。

北京瑞科中儀科技有限公司長(zhǎng)期代理銷售供應(yīng)多種分子材料的研究分析設(shè)備,,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡,、感應(yīng)耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機(jī),、等離子清洗機(jī),、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學(xué)顯微鏡以及實(shí)驗(yàn)室設(shè)備儀器,。

客戶至上的服務(wù)理念,,以人為本的企業(yè)文化,我們始終為用戶提供專業(yè)的服務(wù),!

合作丨共贏,,選擇我們,,選擇未來(lái)!

 

半導(dǎo)體材料分析,材料刻蝕

應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,化工,電子/電池

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低真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備(LPCVD)是一種化學(xué)氣相沉積技術(shù),,利用熱能在基板表面上引發(fā)前驅(qū)氣體的反應(yīng),。表面的反應(yīng)是形成固化材料的原因。低真空用於減少氣相反應(yīng),,還可以提高整個(gè)基板的均勻性,。除此之外,該過(guò)程取決於溫度控制,,過(guò)程溫度越高,,維持性越好。與大氣壓下的傳統(tǒng)CVD製程相比,,LPCVD的優(yōu)勢(shì)在於:每批製程可裝載更多的晶圓(每批100-200個(gè)晶圓),、晶圓內(nèi)的厚度均勻性得到了改善(<±3%),並且降低生產(chǎn)成本,。SYSKEY的系統(tǒng)可以精準(zhǔn)的控制製程氣體與監(jiān)控其數(shù)據(jù)(壓力,、載臺(tái)溫度),並提供高品質(zhì)的薄膜,。

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低真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備參數(shù)

應(yīng)用領(lǐng)域腔體
  • 碳納米管和石墨烯的製程,。

  • SiOx、SiNx,、a-Si,、DLC和其他薄膜

    製程。

  • 熱退火,。

  • 擴(kuò)散製程,。

  • 氧化製程。

  • 加熱爐配置:水平或垂直,,結(jié)合

    傳送機(jī)構(gòu),。



配置和優(yōu)點(diǎn)選件
  • 客製化的基板尺寸,最大直徑可達(dá)8寸

    晶圓,。

  • 單載片或多載片,。

  • 優(yōu)異的薄膜均勻度小於±5%。

  • 精準(zhǔn)流量控制器,,氣體分佈高度均勻,,最多可容納10條氣體管線。

  • 穩(wěn)定的溫度控制,,可將載盤加熱至1700°C,。

  • 可以與傳送腔(單載臺(tái)或多載臺(tái))整

    合在一起。




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