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低真空化學氣相沉積設(shè)備

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 更新時間 2024/7/10 13:38:19
  • 訪問次數(shù) 1057

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北京瑞科中儀科技有限公司專注半導體材料研究分析設(shè)備的研發(fā)和應用,。專業(yè)的團隊,,專精的服務,提供理想的解決方案,。

我們長期專注于半導體材料研究與分析設(shè)備的經(jīng)銷和代理,,為高校、企業(yè)科研工作者提供專業(yè)的分析解決方案,。以專業(yè)技能為導向,,用科技來解決用戶在科研中遇到的難題。專業(yè)的技術(shù)工程師和科研工作者進行現(xiàn)場演示和技術(shù)交流,打消顧慮,,彼此協(xié)作,,為我國的科研領(lǐng)域譜寫新篇章。

北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應多種分子材料的研究分析設(shè)備,,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡,、感應耦合等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機,、等離子清洗機,、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學顯微鏡以及實驗室設(shè)備儀器。

客戶至上的服務理念,,以人為本的企業(yè)文化,,我們始終為用戶提供專業(yè)的服務!

合作丨共贏,,選擇我們,,選擇未來!

 

半導體材料分析,材料刻蝕

應用領(lǐng)域 環(huán)保,化工,電子/電池

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低真空化學氣相沉積設(shè)備(LPCVD)是一種化學氣相沉積技術(shù),,利用熱能在基板表面上引發(fā)前驅(qū)氣體的反應,。表面的反應是形成固化材料的原因。低真空用於減少氣相反應,,還可以提高整個基板的均勻性,。除此之外,該過程取決於溫度控制,,過程溫度越高,,維持性越好。與大氣壓下的傳統(tǒng)CVD製程相比,,LPCVD的優(yōu)勢在於:每批製程可裝載更多的晶圓(每批100-200個晶圓),、晶圓內(nèi)的厚度均勻性得到了改善(<±3%),並且降低生產(chǎn)成本,。SYSKEY的系統(tǒng)可以精準的控制製程氣體與監(jiān)控其數(shù)據(jù)(壓力,、載臺溫度),並提供高品質(zhì)的薄膜,。

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低真空化學氣相沉積設(shè)備參數(shù)

應用領(lǐng)域腔體
  • 碳納米管和石墨烯的製程,。

  • SiOx,、SiNx,、a-Si、DLC和其他薄膜

    製程,。

  • 熱退火,。

  • 擴散製程。

  • 氧化製程。

  • 加熱爐配置:水平或垂直,,結(jié)合

    傳送機構(gòu),。



配置和優(yōu)點選件
  • 客製化的基板尺寸,最大直徑可達8寸

    晶圓,。

  • 單載片或多載片,。

  • 優(yōu)異的薄膜均勻度小於±5%。

  • 精準流量控制器,,氣體分佈高度均勻,,最多可容納10條氣體管線。

  • 穩(wěn)定的溫度控制,,可將載盤加熱至1700°C,。

  • 可以與傳送腔(單載臺或多載臺)整

    合在一起。




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