一、產(chǎn)品概述：

工業(yè)顯微鏡是一種用于觀察和分析材料表面及內(nèi)部結(jié)構(gòu)的精密光學儀器,。它廣泛應(yīng)用于材料科學,、電子制造和質(zhì)量控制等領(lǐng)域，能夠提供高倍放大率和清晰的圖像,，以幫助用戶進行細致的觀察和檢測,。

二、設(shè)備用途/原理：

·設(shè)備用途

工業(yè)顯微鏡主要用于金屬,、塑料,、陶瓷等材料的表面缺陷檢測、微觀結(jié)構(gòu)分析以及焊接接頭的質(zhì)量評估,。它還被廣泛應(yīng)用于電子元件的檢查和故障分析,，確保產(chǎn)品的質(zhì)量和可靠性。

·工作原理

工業(yè)顯微鏡通過光學系統(tǒng)將樣品的微小細節(jié)放大,，使用高分辨率的鏡頭和照明系統(tǒng),，使得用戶能夠清晰地觀察到樣品的微觀結(jié)構(gòu)。顯微鏡通常配備有多種放大倍率和照明模式,，能夠適應(yīng)不同類型的樣品和檢測需求,。通過觀察放大的圖像，用戶可以進行詳細的分析和記錄,，為后續(xù)的研究和質(zhì)量控制提供依據(jù),。

三、主要技術(shù)指標：

1. 支持通過光學顯微鏡或圖像測量儀（如Nikon NEXIV）,，對直徑為6英寸（150mm）和8英寸（200mm）的半導體晶圓的創(chuàng)新設(shè)計和材料進行全面檢測

2. 良好的半導體晶圓裝載機系列,，能夠?qū)⒅睆綖?英寸（150mm）和8英寸（200mm）的晶圓轉(zhuǎn)移到厚度為100微米（工廠制造選項）的尼康Eclipse L200N和LV150N顯微鏡或NEXIV VMZ-S視頻測量儀器上

3. NWL200系列與尼康NEXIV影像測量儀器集成在一起，可在半導體生產(chǎn)和檢測過程中快速提供全精度和準確度

支持半導體晶圓圖案側(cè),、后周邊和中心區(qū)域檢測,?？勺詣踊蚴謩釉O(shè)置晶圓旋轉(zhuǎn)速度和傾斜角度