一、雙腔室超高真空磁控濺射系統(tǒng)核心參數(shù)：  

儀器種類：磁控濺射 

產(chǎn)地類別：國產(chǎn)  

應用領域：微電子學  

基片尺寸：4寸（可定制）  

靶材：鉭  

基片溫度范圍：RT-900oC  

成膜厚度均勻性：基板刻蝕均一性<3%  

極限真空：極限真空UltimatePressure<3E-9Torr  

二,、磁控濺射技術(shù)原理：  

在陰極靶的表面上方形成一個正交電磁場,。當濺射產(chǎn)生的二次電子在陰極位降區(qū)內(nèi)被加速為高能電子后，并不直接飛向陽極,，而是在正交電磁場作用下作來回振蕩的近似擺線的運動,。高能電子不斷與氣體分子發(fā)生碰撞并向后者轉(zhuǎn)移能量，使之電離而本身變成低能電子,。這些低能電子最終沿磁力線漂移到陰極附近的輔助陽極而被吸收,，避免高能電子對極板的強烈轟擊，消除了二級濺射中極板被轟擊加熱和被電子輻照引起的損傷,，體現(xiàn)出磁控濺射中極板“低溫”的特點,。由于外加磁場的存在，電子的復雜運動增加了電離率,，實現(xiàn)了高速濺射,。  

三、雙腔室超高真空磁控濺射系統(tǒng)技術(shù)特點：  

成膜速率高,，基片溫度低,，膜的粘附性好 

四、售后服務：  

保修期：1年  

是否可延長保修期：否  

現(xiàn)場技術(shù)咨詢：有  

免費培訓：1.設備出廠前,，提供至少2人一周的設備原廠培訓,。2.設備在現(xiàn)場完成安裝調(diào)試  

免費儀器保養(yǎng)：有需要可安排  

保內(nèi)維修承諾：保修期內(nèi)（除天災和人為損害外）部件、元件費用,、出差費用均由我司承擔  

報修承諾：質(zhì)保期內(nèi)出現(xiàn)故障時我司將及時響應,，并在8小時內(nèi)派技術(shù)人員到現(xiàn)場解決故障；  

五,、技術(shù)參數(shù)：  

六,、工藝展示：