一,、雙腔室超高真空雙磁控測(cè)射系統(tǒng)核心參數(shù)：  

價(jià)格區(qū)間：150萬(wàn)-200萬(wàn)  

儀器種類(lèi)：磁控濺射鍍膜機(jī)  

產(chǎn)地類(lèi)別：國(guó)產(chǎn)  

應(yīng)用領(lǐng)域：微電子學(xué)  

基片尺寸：4寸（可定制）  

靶材：鉭  

基片溫度范圍：RT-900oC  

成膜厚度均勻性：基板刻蝕均一性<3%  

極限真空：極限真空UltimatePressure<3E-9Torr  

二,、磁控濺射技術(shù)原理：  

在陰極靶的表面上方形成一個(gè)正交電磁場(chǎng)。當(dāng)濺射產(chǎn)生的二次電子在陰極位降區(qū)內(nèi)被加速為高能電子后,，并不直接飛向陽(yáng)極,，而是在正交電磁場(chǎng)作用下作來(lái)回振蕩的近似擺線(xiàn)的運(yùn)動(dòng)。高能電子不斷與氣體分子發(fā)生碰撞并向后者轉(zhuǎn)移能量,，使之電離而本身變成低能電子,。這些低能電子最終沿磁力線(xiàn)漂移到陰極附近的輔助陽(yáng)極而被吸收，避免高能電子對(duì)極板的強(qiáng)烈轟擊,，消除了二級(jí)濺射中極板被轟擊加熱和被電子輻照引起的損傷,，體現(xiàn)出磁控濺射中極板“低溫”的特點(diǎn)。由于外加磁場(chǎng)的存在,，電子的復(fù)雜運(yùn)動(dòng)增加了電離率,，實(shí)現(xiàn)了高速濺射。  

三,、雙腔室超高真空雙磁控測(cè)射系統(tǒng)技術(shù)特點(diǎn)：  

成膜速率高,，基片溫度低，膜的粘附性好,，可實(shí)現(xiàn)大面積鍍膜  

四,、售后服務(wù)：  

保修期：1年  

是否可延長(zhǎng)保修期：否  

現(xiàn)場(chǎng)技術(shù)咨詢(xún)：有  

免費(fèi)培訓(xùn)：1.設(shè)備出廠(chǎng)前,，提供至少2人一周的設(shè)備原廠(chǎng)培訓(xùn)。2.設(shè)備在現(xiàn)場(chǎng)完成安裝調(diào)試  

免費(fèi)儀器保養(yǎng)：有需要可安排  

保內(nèi)維修承諾：保修期內(nèi)（除天災(zāi)和人為損害外）部件,、元件費(fèi)用,、出差費(fèi)用均由我司承擔(dān)  

報(bào)修承諾：質(zhì)保期內(nèi)出現(xiàn)故障時(shí)我司將及時(shí)響應(yīng)，并在8小時(shí)內(nèi)派技術(shù)人員到現(xiàn)場(chǎng)解決故障,；  

五,、技術(shù)參數(shù)：  

六、工藝展示：