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非標(biāo)定制 多功能磁控濺射鍍膜機(jī)
- 公司名稱 鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) 非標(biāo)定制
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2023/11/1 15:17:59
- 訪問次數(shù) 338
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鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司(簡稱：鵬城半導(dǎo)體）,，由哈爾濱工業(yè)大學(xué)（深圳）與有多年實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)的工程師團(tuán)隊(duì)共同發(fā)起創(chuàng)建,。公司立足于技術(shù)前沿與市場前沿的交叉點(diǎn)，尋求創(chuàng)新yin/ling與可持續(xù)發(fā)展,，解決產(chǎn)業(yè)的痛點(diǎn)和國產(chǎn)化難題,，爭取產(chǎn)業(yè)鏈的自主可控。
公司核心業(yè)務(wù)是微納技術(shù)與gao duan精密制造,，具體應(yīng)用領(lǐng)域包括半導(dǎo)體材料,、半導(dǎo)體工藝和半導(dǎo)體裝備的研發(fā)設(shè)計(jì)和生產(chǎn)制造。
公司人才團(tuán)隊(duì)知識(shí)結(jié)構(gòu)完整,，有以哈工大教授和博士為核心的高水平材料研究和工藝研究團(tuán)隊(duì),；還有來自工業(yè)界的高級(jí)裝備設(shè)計(jì)師團(tuán)隊(duì)，他們具有20多年的半導(dǎo)體材料研究,、外延技術(shù)研究和半導(dǎo)體薄膜制備成套裝備設(shè)計(jì),、生產(chǎn)制造的經(jīng)驗(yàn)。
公司依托于哈爾濱工業(yè)大學(xué)（深圳）,，具備*的半導(dǎo)體研發(fā)設(shè)備平臺(tái)和檢測設(shè)備平臺(tái),，可以在高起點(diǎn)開展科研工作。公司總部位于深圳市,，具備半導(dǎo)體裝備的研發(fā),、生產(chǎn)、調(diào)試以及半導(dǎo)體材料與器件的中試,、生產(chǎn),、銷售的能力。
半導(dǎo)體材料,工藝和裝備的研發(fā)設(shè)計(jì),生產(chǎn)制造
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,石油,電子/電池,航空航天 |
多功能磁控濺射鍍膜機(jī)是用磁控濺射的方法,，制備金屬,、合金、化合物,、半導(dǎo)體,、陶瓷,、介質(zhì)復(fù)合膜及其它化學(xué)反應(yīng)膜等；適用于鍍制各種單層膜,、多層膜,、摻雜膜系及合金膜；可鍍制磁性材料和非磁性材料,。
多功能磁控濺射鍍膜機(jī)-設(shè)備關(guān)鍵技術(shù)特點(diǎn)
秉承設(shè)備為工藝實(shí)現(xiàn)提供實(shí)現(xiàn)手段的理念,，我們做了如下設(shè)計(jì)和工程實(shí)現(xiàn)，實(shí)際運(yùn)行效果良好,，為用戶的專用工藝實(shí)現(xiàn)提供了精準(zhǔn)的工藝設(shè)備方案,。
靶材背面和濺射靶表面的結(jié)合處理
-靶材和靶面直接做到面接觸是很難的，如果做不到面接觸,，接觸電阻將增大,，導(dǎo)致離化電場的幅值不夠（接觸電阻增大，接觸面的電場分壓增大）,，導(dǎo)致鍍膜效果不好,；電阻增大導(dǎo)致靶材發(fā)熱升溫，降低鍍膜質(zhì)量,。
-靶材和靶面接觸不良,，導(dǎo)致水冷效果不好，降低鍍膜質(zhì)量,。
-增加一層特殊導(dǎo)電導(dǎo)熱的軟薄的物質(zhì),，保證面接觸。
距離可調(diào)整
基片和靶材之間的距離可調(diào)整,，以適應(yīng)不同靶材的成膜工藝的距離要求,。
角度可調(diào)
磁控濺射靶頭可調(diào)角度，以便針對(duì)不同尺寸基片的均勻性,，做精準(zhǔn)調(diào)控,。
集成一體化柜式結(jié)構(gòu)
一體化柜式結(jié)構(gòu)優(yōu)點(diǎn)：
安全性好（操作者不會(huì)觸碰到高壓部件和旋轉(zhuǎn)部件）
占地面積小，尺寸約為：長1100mm×寬780mm（標(biāo)準(zhǔn)辦公室門是800mm寬）（傳統(tǒng)設(shè)備大約為2200mm×1000mm）,，相同面積的工作場地,，可以放兩臺(tái)設(shè)備。
控制系統(tǒng)
采用計(jì)算機(jī)＋PLC兩級(jí)控制系統(tǒng)
安全性
-電力系統(tǒng)的檢測與保護(hù)
-設(shè)置真空檢測與報(bào)警保護(hù)功能
-溫度檢測與報(bào)警保護(hù)
-冷卻循環(huán)水系統(tǒng)的壓力檢測和流量
-檢測與報(bào)警保護(hù)
勻氣技術(shù)
工藝氣體采用勻氣技術(shù),，氣場更均勻,，鍍膜更均勻。
基片加熱技術(shù)
采用鎧裝加熱絲,，由于通電加熱的金屬絲不暴露在真空室內(nèi),，所以高溫加熱過程中不釋放雜質(zhì)物質(zhì)，保證薄膜的純凈度,。鎧裝加熱絲放入均溫器里,，保證溫常的均勻,，然后再對(duì)基片加熱。
真空度更高,、抽速更快
真空室內(nèi)外,，全部電化學(xué)拋光，*去除表面微觀毛刺叢林（在顯微鏡下可見）,，沒有微觀藏污納垢的地方,，腔體內(nèi)表面積減少一倍以上，鍍膜更純凈,，真空度更高，抽速更快,。
設(shè)備詳情
設(shè)備結(jié)構(gòu)及性能
1,、單鍍膜室、雙鍍膜室,、單鍍膜室＋進(jìn)樣室,、鍍膜室+手套箱
2、磁控濺射靶數(shù)量及類型：1 ～ 6 靶,，圓形平面靶,、矩形靶3、靶的安裝位置：由下向上,、由上向下,、斜向、側(cè)向安裝
3,、靶的安裝位置：由下向上,、由上向下、斜向,、側(cè)向安裝
4,、磁控濺射靶：射頻、中頻,、直流脈沖,、直流兼容
5、基片可旋轉(zhuǎn),、可加熱
6,、通入反應(yīng)氣體，可進(jìn)行反應(yīng)濺射鍍膜7,、操作方式：手動(dòng),、半自動(dòng)、全自動(dòng)
7,、樣品傳遞采用折疊式超高真空機(jī)械手
工作條件
| 類型 | 參數(shù) | 備注 |
|---|---|---|
| 供電 | ～ 380V | 三相五線制 |
| 功率 | 根據(jù)設(shè)備規(guī)模配置 | |
| 冷卻水循環(huán) | 根據(jù)設(shè)備規(guī)模配置 | |
| 水壓 | 1.0 ～ 1.5×10^5Pa | |
| 制冷量 | 根據(jù)扇熱量配置 | |
| 水溫 | 18～25℃ | |
| 氣動(dòng)部件供氣壓力 | 0.5～0.7MPa | |
| 質(zhì)量流量控制器供氣壓力 | 0.05～0.2MPa | |
| 工作環(huán)境溫度 | 10℃～40℃ | |
| 工作濕度 | ≤50% |
設(shè)備主要技術(shù)指標(biāo)
-基片托架：根據(jù)供件大小配置,。
-基片加熱器溫度：根據(jù)用戶供應(yīng)要求配置,，溫度可用電腦編程控制，可控可調(diào),。
-基片架公轉(zhuǎn)速度 ：2 ～100 轉(zhuǎn) / 分鐘,，可控可調(diào)；基片自轉(zhuǎn)速度：2 ～20 轉(zhuǎn) / 分鐘,。
-基片架可加熱,、可旋轉(zhuǎn)、可升降,。
-靶面到基片距離： 30 ～ 140mm 可調(diào),。
-Φ2 ～Φ4 英寸平面圓形靶 2 ～ 3 支，配氣動(dòng)靶控板,，靶可擺頭調(diào)角度,。
-鍍膜室的極限真空：6X10^-5Pa，恢復(fù)工作背景真空 7X10^-4Pa ,，30 分鐘左右（新設(shè)備充干燥氮?dú)猓?/p>
-設(shè)備總體漏放率：關(guān)機(jī) 12 小時(shí)真空度≤10Pa,。
1-3-6-3-2-7-5-0-0-1-7
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