一,、產品應用：

JS-600M小型磁控濺射儀采用二極（DC）直流濺射原理設計,，帶磁控靶頭，有水冷功能,。設備操作簡單方便,，適用于掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備,非導體材料實驗電極的制作,。

磁控濺射為冷濺射，對樣品表面的升溫較低,，適用對溫度較敏感的薄膜樣品,。用戶可以根據自己的需要自行選擇不同的真空條件，濺射電流,。大尺寸的真空腔體設計，滿足大樣品的濺射需求,。標配一片金靶,，純度為99.999%，為獲得高質量的金膜提供了良好的基礎,。

二,、1600V二極磁控濺射儀配置及技術指標：

1.本系統裝配了水冷卻磁控靶，靶面直徑為50mm,；

2.主機規(guī)格：L360mm*W300mm*H380mm,；

3.靶（上部電極）：金：直徑：50mm，厚度：0.1mm,；

4.真空樣品室：直徑：160mm,，高：110mm；

5.濺射面積：Ф50mm,；

6.工作真空：2×10-1—6×10-2 mbar,；

7.離子電流表：0-100mA；

8.定時器：根據濺射習慣設定單次濺射時間,；

9.針閥：配有進氣口,，微量充氣調節(jié)，可連接φ4*2.5mm軟管,；

10.工作室工作媒介氣體：空氣或氬氣等多種氣體,；

11.濺射電壓：-1600 DCV；

12.飛躍真空泵（VRD-4）：1.1L/S,。

三,、1600V二極磁控濺射儀產品特點：

1.輕便、濺射面積大,；

2.可以濺射鉑,、金及銀等金屬；

3.濺射效率高,，可水冷降溫,；

備注：JS-600M小型磁控濺射儀可適用的靶材：金、鉑,、銀,。