一,、產(chǎn)品應(yīng)用：

JS-600M小型磁控濺射儀采用二極（DC）直流濺射原理設(shè)計,，帶磁控靶頭，有水冷功能,。設(shè)備操作簡單方便,，適用于掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備,非導(dǎo)體材料實驗電極的制作。

磁控濺射為冷濺射,，對樣品表面的升溫較低,，適用對溫度較敏感的薄膜樣品。用戶可以根據(jù)自己的需要自行選擇不同的真空條件,，濺射電流,。大尺寸的真空腔體設(shè)計,，滿足大樣品的濺射需求,。標(biāo)配一片金靶，純度為99.999%，為獲得高質(zhì)量的金膜提供了良好的基礎(chǔ),。

二,、配置及技術(shù)指標(biāo)：

1.本系統(tǒng)裝配了水冷卻磁控靶，靶面直徑為50mm,；

2.主機規(guī)格：L360mm*W300mm*H380mm,；

3.靶（上部電極）：金：直徑：50mm，厚度：0.1mm,；

4.真空樣品室：直徑：160mm,，高：110mm；

5.濺射面積：Ф50mm,；

6.工作真空：2×10-1—6×10-2 mbar,；

7.離子電流表：0-100mA；

8.定時器：根據(jù)濺射習(xí)慣設(shè)定單次濺射時間,；

9.針閥： 配有進氣口,，微量充氣調(diào)節(jié)，可連接φ4*2.5mm軟管,；

10.工作室工作媒介氣體：空氣或氬氣等多種氣體,；

11.濺射電壓：-1600 DCV；

12.飛躍真空泵（VRD-4）：1.1L/S,。

三,、產(chǎn)品特點：

1.輕便、濺射面積大,；

2.可以濺射鉑,、金、銀及氧化鋅,；

3.濺射效率高,，可水冷降溫；

備注：JS-600M小型磁控濺射儀可適用的靶材：金,、鉑,、銀。